[实用新型]一种自动浸釉机有效
申请号: | 201520286124.0 | 申请日: | 2015-05-06 |
公开(公告)号: | CN204607871U | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 王小龙 | 申请(专利权)人: | 王小龙 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362500 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动 浸釉机 | ||
技术领域
本实用新型涉及陶瓷生产设备领域,具体的涉及一种自动浸釉机。
背景技术
陶瓷在烧制前需要给陶瓷表面上釉,传统的上釉方式为人工上釉,当采用浸釉法时,使用人工逐个将胚体浸入釉浆池内,利用胚体的吸水性吸附釉浆,采用人工上釉的方式缺陷在于耗费人力,生产效率低,上釉易不均匀,不合符现代陶瓷规模化和自动化的需求。
为解决该问题,授权公开号为CN 203653449U的实用新型专利提供了一种一种日用陶瓷制品自动浸釉机。该实用新型提供的日用陶瓷制品自动浸釉机,在支架上层表面两端固定安装有轴承座和轴承,穿过轴承的是翻转主轴,翻转主轴穿过整个支架,翻转主轴伸出支架外面部分连接着翻转传动机构,转筒内设置有中心管,可通过旋转接头与真空发生装置控制转筒内部的真空度。该实用新型提供的日用陶瓷制品自动浸釉机虽然提供了一种自动上釉的设备,但仍存在一定缺陷:上釉过程完成后,胚体残留的釉液需要人工倒出,不符合自动化程度不足;胚体的角度不可调整,不能适用于不同类型的胚体上釉。
实用新型内容
为克服现有技术中的不足,本实用新型提供一种自动化程度高、调整范围广的自动浸釉机。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:一种自动浸釉机,其特征在于:包括主机架、升降机构、翻转机构、旋转机构和釉浆池,所述升降机构包括升降臂、升降驱动和升降轨道,该升降轨道设置于主机架上,升降驱动带动升降臂沿升降轨道上下移动,所述翻转机构包括翻转轴和翻转驱动,翻转轴在翻转驱动的带动下可旋转的设置于升降臂上,翻转轴的轴线垂直于升降平面,所述旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机,该抽气机与气管相连通,,空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上,空心轴的轴线平行于升降平面,空心轴的一端与气管连通,一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接,空心轴的端面高于吸胚筒内底面,所述釉浆池位于旋转机构下方。
进一步的,还包括注浆管,所述注浆管设置主机架上,当吸胚筒的筒口正向上时,注浆管的管口位于吸胚筒筒口的上方。
进一步的,所述气管还包括旋转接头,用于连接气管和空心轴。
进一步的,所述升降驱动为液压缸,液压缸一端连接于主机架,一端连接于升降臂。
进一步的,所述翻转驱动为液压马达。
进一步的,所述旋转驱动为液压马达。
由上述描述可知,本实用新型提供的自动浸釉机至少包含以下有益效果:一是胚体可实现完全倒置,将配体内的多余釉料倾倒出来,避免釉料的浪费;二是胚体上釉的角度和高度可以自由调整,从而更好地适用于不同类型的胚体;三是吸胚筒内,空心轴的端面高于吸胚筒内底面,避免吸胚筒的釉液被真空吸管吸走;此外能实现对上釉时间的自动控制,保证同一批胚体上釉的厚度一致,提高成品率。
附图说明
图1为本实用新型自动浸釉机的结构示意图。
图2为本实用新型自动浸釉机的上釉过程示意图。
图3为本实用新型自动浸釉机的上釉过程示意图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
如图1和图2所示,本实用新型自动浸釉机,包括主机架1、升降机构2、翻转机构3、旋转机构4、釉浆池5和注浆管6,所述升降机构2包括升降臂21、液压缸22和升降轨道23,该升降轨道23设置于主机架1上,液压缸22带动升降臂21沿升降轨道23上下移动,液压缸22一端连接于主机架1,一端连接于升降臂21,所述翻转机构3包括翻转轴31和翻转液压马达32,翻转轴31在翻转液压马达32的带动下可旋转的设置于升降臂21上,翻转轴31的轴线垂直于升降平面,所述旋转机构4包括吸胚筒41、旋转液压马达42、气管43、空心轴44和抽气机45,该抽气机45与气管43相连通,空心轴44在旋转液压马达42的带动下可旋转的设置于翻转轴31上,空心轴44的轴线平行于升降平面,且空心轴44的一端与气管43连通,一端穿过吸胚筒41底部的中心孔并与吸胚筒41连接,气管43包括旋转接头431,用于连接气管43和空心轴44,空心轴44的端面高于吸胚筒41的内底面,所述釉浆池5位于旋转机构4的下方,注浆管6设置主机架1上,且当吸胚筒41的筒口411正向上时,注浆管6的管口位于吸胚筒41的筒口411的上方。
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