[实用新型]干涉仪中的等厚干涉腔

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种许多其他双光束干涉仪形成干涉图样的过程提供了双光束干涉分析的等厚干涉腔，属于干涉仪领域。

背景技术

干涉现象是光的波动性的最严格、最有效的证明，这个现象是由于两束或多束光的重叠，使能量体密度在空间上规则分布的结果。光干涉测量方法作为检测高精密光学元件和系统的最传统、有效手段之一，已大最的应用于科学研究与工业生产之中。在实际使用过程中，现阶段干涉仪大多采用激光器作为照明光源，而激光器具有极强的时间和空间相干性，因此，在干涉检测过程中，并不需要考虑干涉腔长的限制，就可以使干涉条纹具有良好的对比度，并且随着电子与计算机技术的发展，产生的位相干涉检测技术，使测量极限由传统的λ/10提高了一个数量级以上，且具有很高的重复性。然而，正是由于激光具有的高度相干性，它虽然降低了干涉仪的使用难度，但由于光学干涉的极端灵敏性，在光学元件加工过程中产生的微观坑点等缺陷与元件表面污染所产生的散射光会发生相干叠加，在干涉图中会出现许多牛眼环或靶心等相干噪声，它们在一定程度上改变了干涉图的空间结构，从而引起了被测面面型或波前形状的测量误差。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。

本实用新型提供了一种干涉仪中的等厚干涉腔，主要包括后侧镜、前侧镜和准直镜，按照光源的光路方向依次设置准直镜、前侧镜和后侧镜，所述后侧镜和前侧镜为平面镜，后侧镜为反射镜，前侧镜为半反半透镜。

优选的，上述后侧镜和前侧镜并排平行设置。

优选的，上述后侧镜和前侧镜的中心点与准直镜的中心点处于同一水平面。

优选的，上述后侧镜的中心点与准直镜的后焦距点重合，所述前侧镜与后侧镜之间的距离根据光源入射光的入射角度和准直镜的焦距确定。

本实用新型提供的干涉仪中的等厚干涉腔为分析干涉仪和许多其他双光束干涉仪形成干涉图样的过程提供了双光束干涉的基础。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

附图标记：1-后侧镜；2-前侧镜；3-准直镜。

具体实施方式

为了便于本领域普通技术人员理解和实施本实用新型，下面结合附图及具体实施方式对本实用新型作进一步的详细描述。

如图1所示，本实用新型提供的干涉仪中的等厚干涉腔，主要包括后侧镜1、前侧镜2和准直镜3，按照光源的光路方向依次设置准直镜3、前侧镜2和后侧镜1，后侧镜1和前侧镜2为平面镜，后侧镜1为反射镜，前侧镜2为半反半透镜。后侧镜1和前侧镜2并排平行设置。后侧镜1和前侧镜2的中心点与准直镜3的中心点处于同一水平面。后侧镜1的中心点与准直镜3的后焦距点重合，前侧镜2与后侧镜1之间的距离根据光源入射光的入射角度和准直镜3的焦距确定。

由于很多干涉仪和许多其他双光束干涉仪形成干涉图样的过程都可用本实用新型的双光束干涉来进行分析，因此，可以通过对图1所示的等厚干涉腔的计算来得到Δ′与θ的关系。依据图1所示的几何关系，可以推导出如下公式：

θ≈tanθ=rf]]>