[实用新型]一种磁控溅射台磁水平检测装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种次测量装置，特别适用于金属薄膜沉积过程中，一种磁控溅射台磁水平检测装置。

研究背景

磁控溅射或者其它离子束溅射沉积方法，在金属表面生长中有广泛的应用。实验样品基底通常放在沉积台表面，溅射离子在基底上成长，最后成为表面膜层。针对磁性材料成膜，特别是铁、钴、镍等磁性材料，在外加匀强磁场作用下，成膜效果要好。

物理学中平面增加匀强磁场的方法有三种，分别是亥姆霍兹线圈中心位置；通电直导线周围磁场；磁体NS极之间区域。通常使用亥姆霍兹线圈中心位置来获得匀强磁场，磁控溅射沉积室内一般采用此装置。但是，沉积台表面是否处于亥姆霍兹线圈中心位置，没有专用设备调节。

实用新型内容

匀强磁场存在于两个亥姆霍兹线圈中心平面，但是，这个平面位置是看不到的，只能猜测其大概位置。

本实用新型提供一种磁控溅射台磁水平检测装置，包括亥姆霍兹线圈、沉积台和升降台，其特征在于：所述装置包括磁感应强度探针安装在沉积台水平表面上，沉积台在升降台的作用下，位置可以移动。

所述装置包括磁感应强度探针至少有三个。

本实用新型有益效果：本实用新型提供一种测量装置，解决匀强磁场和沉积台平面共面的问题。

附图说明

图1为本实用新型结构图

具体实施方式

如图1所示，匀强磁场存在于两个亥姆霍兹线圈1中心平面，调节升降台4，使沉积台3到达预计的位置。

姆霍兹线圈1启动，有匀强磁场产生。磁感应强度探针2能够检测到磁感应强度，当多个磁感应强度探针2阵列磁感应强度相等时，证明沉积台3水平面与匀强磁场平面重合，反之，调节升降台4高度，最终使磁感应强度探针2阵列磁感应强度相等。