[实用新型]改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置

权利要求书

1.一种改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，包括内部设有熔体流道的壳体，其特征在于：所述熔体流道包括主流道、与主流道连通的分流道及设于分流道底部的多个下料口；所述主流道为设于壳体内的圆柱形通孔，所述分流道为V型流道，分流道的V型开口与主流道下方连通，多个下料口依次设于分流道底部；所述主流道内部穿有流道内芯，所述流道内芯为圆柱形，流道内芯的一端设有锥形头部，另一端设有与壳体连接的内芯法兰，所述主流道一端设有进料口法兰，流道内芯的内芯法兰与壳体连接后，锥形头部面对进料口法兰的位置。

2.根据权利要求1所述的改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，其特征在于：设于分流道底部的多个下料口的直径依次递增，以最靠近进料口法兰位置的下料口为第一个下料口，设其直径D₁＝a，则其余下料口的直径依次为D_n＝(1.02～1.05)^n-1*a,其中n＝2,3,4,……，48。

3.根据权利要求1所述的改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，其特征在于：所述流道内芯的外径为主流道内径的0.3～0.7倍。

4.根据权利要求1所述的改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，其特征在于：所述流道内芯的锥形头部为圆锥形，锥形头部的顶角角度为45～90°。

5.根据权利要求1所述的改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，其特征在于：所述壳体外侧设有加热板，所述加热板为电热式加热板。

6.根据权利要求1所述的改善熔体流动压力及流量分布的熔体导流装置，其特征在于：所述壳体上设有感温探头，所述感温探头的端部与主流道连通。