[实用新型]一种电路板曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光机，特别是一种电路板曝光机。

背景技术

曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70 年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。

在电路板加工过程中，需要对电路板进行曝光，而目前最常用的曝光方式就是采用曝光机曝光，但是现有的曝光机结构较为复杂、曝光效率不高和曝光质量不高，而且由于曝光室内的温度在光照的作用下，会持续升温，曝光灯极易损坏，从而影响电路板的曝光质量，增加设备检修频率，影响电路板的曝光效率，从而增加了电路板的制造成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种效率高、曝光质量好和使用寿命长的电路板曝光机。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种电路板曝光机，它包括放板台、曝光室、输送导轨、曝光平台和曝光灯，所述的放板台的台面与曝光室的入口相对应，所述曝光灯安装在曝光室内的曝光平台下方，所述的输送导轨为上下平行的两个导轨，且每个输送导轨上滑动安装有一曝光平台，所述的曝光平台包括透光平台座和翻转盖，所述的翻转盖可转动打开或合上的安装在透光平台座上，所述的翻转盖内设置有一层挡光膜，所述的曝光室内水平设置有一伸缩气缸，伸缩气缸的两组活塞杆分别与曝光平台连接，所述的曝光室内设置有一顶升气缸，顶升气缸上固定安装有一灯台座，曝光灯安装在灯台座上方，所述的曝光室内安装有一风机，顶升气缸安装在风机上方，所述的风机的上边缘上连接有一灯光罩，曝光灯位于灯光罩内，灯光罩内设置有一温度传感器，温度传感器与风机电性连接。

所述的曝光室上方设置有一控制室，控制室的控制元件控制伸缩气缸与顶升气缸运动。

所述的挡光膜为黑色挡光膜。

本实用新型具有以下优点：本实用新型的曝光机，通过伸缩气缸实现曝光平台的交替曝光，提高了曝光机的工作效率；通过顶升气缸控制曝光灯的距离，使曝光平台始终处于最佳曝光位置，提高了电路板的曝光质量；曝光平台山的翻转盖上设置有一黑色挡光膜，避免了漏光现象，进一步地提高了电路板的曝光质量；设置有灯光罩，灯光罩将曝光灯的光源进行反射，放射后的光源形成平行光对电路板的曝光面进行曝光，灯光罩降低了光源的流失，在相同曝光强度下，可以降低曝光灯数量，节约能耗；设置有风机和温度传感器，可随时监测曝光室内温度，风机工作，可降低曝光室内的温度，避免曝光灯长期处于高温状态下，从而延长了曝光灯的使用寿命。

附图说明

图1 为本实用新型的结构示意图；

图2 为本实用新型的剖视示意图；

图3 为曝光平台张开示意图；

图4 为翻转盖俯视示意图；

图中，1-放板台，2-曝光室，3-控制室，4-曝光平台，5-输送导轨，6-伸缩气缸，7-顶升气缸，8-灯台座，9-翻转盖，10-透光平台座，11-挡光膜，12-曝光灯，13-风机，14-灯光罩，15-温度传感器，16-栅格板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，本实用新型的保护范围不局限于以下所述：