[实用新型]光反射体

说明书

技术领域

本实用新型涉及光反射体，其能够适合用作镜子、或液晶显示器、照明器具、照明广告牌等的反射构件。

背景技术

目前，已知有在塑料膜上形成由铝、银等金属的薄膜形成的金属反射层的光反射膜。光反射膜作为用于手机、电视机等的液晶显示器的背光、荧光灯的光反射体而被使用。

随着最近的液晶显示器的高亮度化的发展，对于提高光反射体的反射性的要求不断提高。即，如果不通过光反射体来使光线品质变好，则无法实现液晶显示器的高亮度。作为要求光反射体的特性，可以列举出全反射率高的特性。

作为提高光反射体的全反射率的技术，在专利文献1(日本特开2006-126236号公报)中提出了对光反射体的基材表面进行高平滑化处理。根据专利文献1，通过对基材表面进行高平滑化处理而使得该表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，能够使反射体的全反射率为80％以上。

然而，存在日本特开2006-126236号公报中记载的光反射体的全反射率不能满足最近的液晶显示器的高亮度化要求的问题。而且，在日本特开2006-126236号公报中对于基材表面的高平滑化处理没有详细记载，为了降低基材的表面粗糙度需要进行过多的试验。

实用新型内容

实用新型所要解决的问题

本实用新型的课题在于提供一种全反射率高的光反射体。

解决问题的方法

为了解决上述问题，本发明人等进行了深入研究，结果发现，通过在基材膜的表面设置结合层，能够容易地确保具有表面粗糙度比基材表面粗糙度小的表面，从而能够获得全反射率高的反射膜。本发明人等进一步深入研究还发现，通过对该结合层的厚度等进行限定，能够获得全反射率更高的反射膜。

即，本实用新型涉及一种光反射体，其依次具有基材层、结合层及反射层，其中，反射层的厚度为60nm以上，并且结合层的反射层侧的表面粗糙度小于基材层的结合层侧的表面粗糙度。

在本实用新型中，“基材层”是指能够成为用于形成反射层的支撑层的层。“结合层”是指设置在基材层表面的层，其是能够掩盖基材层表面的凹凸，从而降低设置反射层一侧的表面粗糙度的层。“反射层”是指对光反射体赋予高反射性的层，是由以金属为主体的薄膜形成的层。“作为主体”是指占层的构成成分的50质量％以上，优选占80质量％以上，更优选占90质量％以上。“表面粗糙度”是指算数平均粗糙度(Sa)。

在本实用新型中，优选结合层的反射层侧的表面粗糙度小于3.0nm。

在本实用新型中，优选基材层的结合层侧的表面粗糙度为100nm以下。

在本实用新型中，优选结合层的厚度为0.5μm以上且小于10μm。

在本实用新型中，优选在反射层的与结合层相反一侧具备保护层。

对于本实用新型而言，在具备上述保护层的情况下，优选该保护层由低折射率层和高折射率层至少2层构成，所述低折射率层是由折射率0.5以上且2.0以下的低折射率无机物形成的，所述高折射率层是由折射率1.8以上且4.0以下的高折射率无机物形成的，且高折射率无机物的折射率比低折射率无机物的折射率高0.5以上。

对于本实用新型而言，在具备上述低折射率层及高折射率层的情况下，优选低折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下，高折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下。

对于本实用新型而言，在具备上述低折射率层及高折射率层的情况下，优选低折射率无机物为SiO₂，高折射率无机物为TiO₂。

优选本实用新型的光反射材料对于波长为450nm以上且550nm以下的光的平均反射率为103％以上。需要说明的是，在本实用新型中，“反射率”是指以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100％)时的反射率，也有可能超过100％。

根据本实用新型，可以提供能够满足液晶显示器高亮度化要求的全反射率高的光反射体。

附图说明

图1是用于说明本实用新型的光反射体10的示意图。

图2是用于说明本实用新型的光反射体10中的层厚度示意图。

图3是用于说明本实用新型的光反射体20的示意图。

图4是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

图5是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

图6是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

符号说明

1…基材层

2…结合层

3…反射层