[实用新型]一种双罐式VD炉操作平台结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于钢水真空精炼的双罐式炼钢VD炉，尤其涉及一种双罐式VD炉操作平台结构。

背景技术

炼钢VD精炼技术，是一种采用VD炉以抽真空的方式，对钢水进行精炼的工艺。VD炉又名VD型钢包精炼炉，能够实现在真空下吹氩、吹氧、脱碳、真空脱气、真空下合金成分微调等操作；可对钢水进行一般的真空脱气处理及真空下合金成分微调。其工作过程，一般包括打开真空罐盖吊入钢包，接通吹氩装置吹氩，测温取样，盖上真空罐盖并抽真空进行处理（有必要时吹氧），处理完毕后打开真空罐盖，再次测温取样并定氢定氧，根据检测结果进行喂丝（加入铝丝、硅钙丝等调整成分）调整，停止吹氩，完成精炼并吊出钢包。

我国专利号201220444104.8曾公开了一种简便实用VD精炼炉，但属于单工位结构，工作效率较低。

我国专利号ZL201120423331.8曾公开了一种单罐盖双罐体VD真空炉，包括供电电源、操作平台、罐体、罐盖、罐盖车、真空泵系统、液压系统、冷却系统、除尘器、吹氩系统，所说的罐体为两个，共用一个罐盖，两个罐体分别设置在罐盖两侧，操作平台上设有道轨，道轨上设有罐盖车，罐盖设置在罐盖车上，可沿道轨往复运动。上述发明中，设计了两个罐体共用一个罐盖形成双工位，当一个罐体进行真空处理时，另一个罐体可以进行测温、喂丝、定氧、定氢等操作，与单工位VD炉相比节省了准备工作时间，两个工位交替作业，能够提高效率。

但这种现有的双工位式VD炉技术，仍然存在以下缺陷：1、VD炉整体结构布局不科学，不利于操控且占地空间较大。2、罐盖车结构较简单，不利于对罐盖的合盖和打开等操作。3、抽真空系统是采用蒸汽喷射泵的湿式抽真空系统，但结构过于复杂，不利于操控，污水处理系统占地面积大。4、对蒸汽要求较高，系统能耗高。5、整个工艺控制过程还有待于进一步优化，以提高生产效率，提高控制稳定性，延长设备寿命。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提供一种布局科学，结构紧凑，占地空间小，能够提供对真空罐灌口密封圈保护的双罐式VD炉操作平台结构。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用了如下的技术方案：

一种双罐式VD炉操作平台结构，操作平台水平设置于两个真空罐灌口高度位置，操作平台上还设置有真空罐盖车，真空罐盖车下方的滚轮配合安装在位于两个真空罐外侧平行设置的真空罐盖车导轨上，其特征在于，所述操作平台整体呈T形，其较宽的一侧两端设置两个真空罐，较窄的一侧上方设置有操作室。

这样，设置操作室，可以方便实现对精炼过程的电气控制。同时使得操作平台具有结构简单紧凑，节省空间的特点。

进一步地，所述操作平台上还设置有真空罐密封圈防护机构，所述真空罐密封圈防护机构，包括一水平设置在操作平台上真空罐盖车下方且高出于真空罐灌口高度的挡渣板，真空罐内防溅盖的移动路径沿竖直方向的投影落入到挡渣板的宽度范围内，挡渣板远离对应真空罐的一侧设置有伸缩装置，伸缩装置的伸缩杆伸缩方向和防溅盖移动路径方向一致，伸缩杆前端连接在挡渣板上并能够带动挡渣板前端伸出覆盖于对应真空罐灌口相邻侧上方。

这样对于干式抽真空系统，为了减少水蒸气对真空泵的干扰破坏，真空罐灌口密封槽内未设置冷却水，故需要采用上述防护机构对密封槽内的橡胶密封圈进行保护。设置上述防护机构后，在实际生产中，当真空罐真空处理结束，真空罐内破真空至恢复常压，提升真空罐盖至上限位，然后启动伸缩装置，带动挡渣板向前伸出遮盖住橡胶密封圈上方，以阻止防溅盖上的高温钢渣掉落密封槽内烧坏橡胶密封圈。真空罐盖车移动至待机工位后，挡渣板复位。或真空罐盖车要行驶至生产工位前，也先要启动挡渣板遮挡住橡胶密封圈，直至真空罐盖车行驶到生产工位后，挡渣板复位，真空罐盖落下开始进行真空处理。这样就无需采用冷却水保护密封圈，能够避免冷却水产生蒸汽以损坏干式真空系统，同时对密封圈防护效果好，能够保证密封圈密封性和使用寿命。

作为优化，所述挡渣板和相邻一侧的真空罐灌口为弧度对应一致的弧形结构。这样，只需移动少许距离即可恰好挡住密封圈，同时不会对防溅盖的移动造成阻碍。

作为优化，所述挡渣板下端两侧设置有滚轮，滚轮滚动配合支撑在操作平台上沿防溅盖的移动路径方向设置的导轨上。这样，可以方便对挡渣板的支承以及控制移动。

作为优化，所述挡渣板为花纹钢材料制得。这样，挡渣板表面粗糙度高，方便工人站立操作，不易摔倒。