[实用新型]一种无需黏着剂的新型ITO导电膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种透明导电膜，特别是涉及一种表面镀铜的无需黏着剂的新型ITO导电膜。

背景技术

目前，手机和平板电脑等越来越多的电子装置都采用触摸式屏幕，触摸屏作为一种新型的输入设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来越大。其中，电阻式和电容式触摸屏较为常用。随着技术的进步，电容式触摸屏的各种结构不断涌现，其中最常用的有苹果经典的双面ITO结构，单面TP桥结构，film-glass结构，film-film-glass结构等，其中对于film-film结构的电容屏结构，电极引线大多采用丝印银浆，ITO导电膜制作感应图型后,需于边侧上方制作导线,将讯号连接制驱动IC。目前制作法多于ITO上方印刷导电银浆，但因银浆中需添加黏着剂，若黏着剂过高则会导致导电度较差；黏着剂过低则粘着性不强，并且制作的银导电厚度较厚且线宽较宽，绕曲效果亦较差，容易造成断线的问题。

发明内容

本实用新型是针对现有技术的不足，提供一种无需黏着剂的新型ITO导电膜，该ITO导电膜数百奈米的厚度即可达到所需的导电效果，且避免使用黏着剂，可有效解决ITO导电膜绕曲效果较差、容易断线的问题。

一种无需黏着剂的新型ITO导电膜，包括基材层、以及依次叠设在基材层上表面的光学调整层、ITO层、导电密着层、铜导电层、导电阻绝层，所述导电密着层厚度为1～100nm，所述铜导线层厚度为50nm～800nm，所述导电阻绝层厚度为1～100nm，所述ITO层厚度为20nm～30nm，表面电阻取值范围选择≦400Ω。

进一步地，所述基材层与光学调整层之间设有硬涂层，所述硬涂层膜厚为0.5～5微米。

进一步地，所述基材层的下表面上进一步设有所述硬涂层。

进一步地，所述基材层的下表面进一步上依次叠设有光学调整层、ITO层、导电密着层、铜导电层、导电阻绝层。

进一步地，所述基材层的下表面进一步上依次叠设有硬涂层、光学调整层、ITO层、导电密着层、铜导电层、导电阻绝层。

进一步地，所述铜导线层厚度优选为100nm～300nm。

与现有技术相比，本实用新型在ITO导电膜上方，以溅镀、蒸镀等技术，直接将铜导线层于制作ITO上方，因铜导线层为纯金属，不需要添加黏着剂，因此仅需数百奈米的厚度即可达到需求之导电效果，同时因无黏着剂之添加，同时也解决了绕曲的问题；通过在ITO层与铜导线层中间添加一导电密着层，在铜导线层上方增加一导电阻绝层，有效克服了铜与ITO密着效果不佳，且容易氧化的问题，也具备现有导电效果外亦可以解决密着与抗氧化问题，增加产品耐候性。

附图说明

附图1是本实用新型的第一较佳实施例的结构示意图；

附图2是本实用新型的第二较佳实施例的结构示意图；

附图3是本实用新型的第三较佳实施例的结构示意图；

附图4是本实用新型的第四较佳实施例的结构示意图；

附图5是本实用新型的第五较佳实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合，下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

本实用新型的透明导电膜的第一实施例，请参阅图1，所述无需黏着剂的新型ITO导电膜包括依次叠设的基材层1、光学调整层2、ITO层3、导电密着层4、铜导线层5、导电阻绝层6。所述基材层1为可透光材质，且表面均匀且平整，其材质可为例如PET、PEN、PC、COP(CyclicOlefinPolymers)、或COC(CyclicOlefinCopolymer)中的一种，其中，优选为PET膜。

所述光学调整层2形成于塑料基材层1的上表面上，用于调整入射光的折射率，所述光学调整层2的折射率优选为1.4-1.55，厚度优选为5-70nm。光学调整层2可以选择以下材料的一种或多种制得：氟化镁、硅的氧化物，硅的氮氧化物，优选二氧化硅。