[实用新型]一种低温共烧陶瓷薄膜的对位平台

权利要求书

1.一种低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，包括底座（1），底座连接有直线式机械臂（2），底座底面设有底座滑槽（3），其特征在于：所述底座上设有水平调节装置（4），水平调节装置上设有角度调节装置（5），角度调节装置上设有升降装置（6），升降装置上设有吸附台（7）。

2.根据权利要求1所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述水平调节装置（4）包括水平板（41）及分别沿横向及纵向布置的两个直线调节机构（42），水平板与底座之间设有四个水平滑动机构（43），四个水平滑动机构呈方形布置。

3.根据权利要求2所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述直线调节机构（42）包括直线气缸（421）、调整块（422）和固定于水平板的两个限位块（423），直线气缸固定于底座上，且驱动调整块直线滑动，调整块被夹于两块限位块之间。

4.根据权利要求3所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述水平滑动机构（43）包括横向滑槽（433）、中间块（432）和纵向滑轨（431），横向滑槽固定于水平板的底部，纵向滑轨固定于底座上，中间块的上表面设有与横向滑槽配合的横向滑轨（4321），中间块的下表面设有与纵向滑轨配合的纵向滑槽（4322）。

5.根据权利要求4所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述角度调节装置（5）包括角度驱动机构（53）、转盘（52）和旋转板（51），转盘位于旋转板和水平板之间，角度驱动机构驱动旋转板绕转盘旋转。

6.根据权利要求5所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述角度驱动机构（53）包括相互连接的角度气缸（531）和连接块（532），连接块固定于旋转板上，角度气缸固定于水平板上。

7.根据权利要求6所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述升降装置（6）包括水平驱动机构（62）、楔形滑块（63）、楔形顶块（64）和升降板（61），水平驱动机构驱动楔形滑块沿旋转板顶面水平直线滑动，楔形滑块和楔形顶块的楔形面相配合，楔形顶块固定于升降板上，升降板上设有导柱，旋转板上设有与导柱配合的导孔。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的低温共烧陶瓷薄膜的对位平台，其特征在于：所述吸附台（7）包括台板（71）和吸气机构（72），台板上设有多个吸附孔（73），吸附孔与吸气机构连通。