[实用新型]共聚焦显微控制荧光仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于观察分析新材料分子或原子量级大小的装置，尤其涉及一种共聚焦显微控制荧光仪，属于显微电子设备领域。

背景技术

纳米材料是指在三维空间中至少有一个维度的尺寸小于100nm或者由它们作为基本单元构成的材料。由于它的尺寸已经接近电子的相干长度，它的性质因为强相干所带来的自组织使得性质发生很大变化，如光学、热学、电学、磁学、力学以及化学方面的性质和块体材料相比将会有显著的不同。所以，纳米尺度和性能特异变化是纳米材料必须同时具备的两个基本特征。

半导体纳米材料的量子尺寸效应和表面与界面等效应，使其表现出独特的光学特性，如光学发光性、吸收带边蓝移、激子发光等。尤其是II-VI族一维纳米材料，它们是宽的直接带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。以硒化镉为(CdSe)例，作为典型的光电半导体材料之一，本身具有独特的光电学性质，在作为光源、光吸收、光波导、光致发光和光电转换等方面有着广阔的应用前景。

目前国内尚无成熟的专门用来制备半导体纳米材料相关样品的装置，也没有配套的测试仪器。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。

本实用新型提供了一种共聚焦显微控制荧光仪，由激光发射器、第一狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜、照相机、显微物镜、样品台、狭缝、第三狭缝和光谱仪构成，按照激光光路的方向依次设置激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、第二狭缝、第三狭缝和光谱仪。

优选的，上述激光发射器和第一狭缝之间设置有第一聚光透镜，第一狭缝和第一半反半透镜之间设置有准直透镜。

优选的，上述第一半反半透镜和第二狭缝之间设置有第三聚光透镜，第二狭缝和第三狭缝之间设置有第三聚光透镜。

优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、显微物镜和样品台。

优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜和照相机。

本实用新型提供的共聚焦显微控制荧光仪，可以得到材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等参数信息，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，为科学实验提供证据。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

附图标记：1-激光发射器；2-第一狭缝；3-第一半反半透镜；4-滤波片；5-第二半反半透镜；6-照相机；7-显微物镜；8-样品台；9-第二狭缝；10-第三狭缝；11-光谱仪；12-第一聚光透镜；13-准直透镜；14-第二聚光透镜；15-第三聚光透镜。

具体实施方式

为了便于本领域普通技术人员理解和实施本实用新型，下面结合附图及具体实施方式对本实用新型作进一步的详细描述。

本实用新型提供的共聚焦显微控制荧光仪，主要结构如图1所示，由激光发射器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5、照相机6、显微物镜7、样品台8、狭缝9、第三狭缝10和光谱仪11构成，按照激光光路的方向依次设置激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、第二狭缝9、第三狭缝10和光谱仪11。激光发射器1和第一狭缝2之间设置有第一聚光透镜12，第一狭缝2和第一半反半透镜3之间设置有准直透镜13。第一半反半透镜3和第二狭缝9之间设置有第三聚光透镜14，第二狭缝9和第三狭缝10之间设置有第三聚光透镜15。

按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、显微物镜7和样品台8。按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5和照相机6。

本实用新型提供的共聚焦显微控制荧光仪，其工作原理为：激光器1出射激光经由外部光路进入显微镜7照射到样品上，样品受到激光的激发，产生光致发光，样品发出的光由显微镜7的物镜进行收集，经过显微镜7里的镜片组(半反半透的透镜)变成平行光，使得样品所发荧光分为两部分，一部分进入照相机6进行成像，一部分经由透镜聚焦后进入光谱仪11。

通过对光致发光峰的分析我们可以得到：物质的特征电子跃迁，粒子是否有表面缺陷发光，样品的发光性能、能级结构和表面状态等信息。

以上所述之具体实施方式为本实用新型的较佳实施方式，并非以此限定本实用新型的具体实施范围，本实用新型的范围包括并不限于本具体实施方式，凡依照本实用新型之形状、结构所作的等效变化均在本实用新型的保护范围内。