[实用新型]透明导电膜及具有该透明导电膜的卷料

说明书

技术领域

本实用新型涉及导电膜技术领域，具体涉及一种透明导电膜及具有该透明导电膜的卷料。

背景技术

手机和平板电脑等越来越多的电子装置都采用触摸式屏幕，触摸屏作为一种新型的输入设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来越大。其中，电阻式和电容式触摸屏较为常用。透明导电膜中ITO(Indium Tin Oxide，掺锡氧化铟)导电膜具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性，是最常用的薄膜材料。ITO导电膜在制作过程中，既要具有一定的柔韧性同时需要具有一定的挺性，以免过于柔韧而易于折伤，两种性能较佳地结合以提高整体制程的良率。

发明内容

鉴于以上所述，本实用新型有必要提供一种兼具柔韧性与适当挺性透明导电膜，以提高整体制程的良率及避免折伤。

一种透明导电膜，包括ITO导电膜，所述ITO导电膜包括从上至下依次层设的ITO导电层、光学调整层、基材层以及硬涂层，透明导电膜还包括连接在ITO导电膜下表面的耐热增挺保护膜，所述耐热增挺保护膜包括保护膜基材层及设置在保护膜基材层上表面的黏着层，所述黏着层上表面粘结ITO导电膜的硬涂层的下表面。

进一步地，所述ITO导电膜的基材层厚度选择在23um至188um之间。

进一步地，所述ITO导电膜的基材层与所述耐热增挺保护膜的保护膜基材层的厚度之和选择在145um至250um之间。

进一步地，所述透明导电膜柔韧性测试的卷筒筒内的直径在12mm以内。

更进一步地，所述透明导电膜柔韧性测试的卷筒筒内的直径在10mm以内。

进一步地，所述透明导电膜挺性测试中的夹角小于30度。

更进一步地，所述透明导电膜挺性测试中的夹角小于20度。

进一步地，所述光学调整层(112)为一层或一层以上的高低折射率层交叠搭配而成。

此外，本实用新型有必要提供一种应用所述透明导电膜的卷料。

一种卷料，由所述的透明导电膜卷曲形成。

相较于现有技术，本实用新型透明导电膜通过在ITO导电膜结合耐热增挺保护膜，使得ITO导电膜在兼有本身的柔韧性同时还具有所需的挺性，并且确保整体制程的良率，避免折伤。

本实用新型的优选实施方案及其有益效果，将结合具体实施方式进一步详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但不应构成对本实用新型的限制。在附图中，

图1为本实用新型具有透明导电膜的卷料的立体图；

图2为本实用新型透明导电膜的截面整体图；

图3为图2所示透明导电膜细化的层结构截面图；

图4为本实用新型透明导电膜挺性测试时的示意图；

图5为本实用新型透明导电膜柔韧性测试时的示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

请参阅图1，所示的一种卷料100，由透明导电膜10卷曲形成。请参阅图2及图3，所示为透明导电膜10的截面图层结构，透明导电膜10包括ITO导电膜11及连接在ITO导电膜11下表面的耐热增挺保护膜12。ITO导电膜11包括从上至下依次层设的ITO导电层111、光学调整层112、基材层113以及硬涂层114。

ITO导电层111为铟锡氧化物导电层，其氧化锡(SnO2)比例介于1～10％间，并以薄膜沉积的方式形成于所述光学调整层112上，并经由150℃下经过60分钟老化处理，ITO导电层111的表面电阻经1N盐酸浸泡3分钟后，其变化率≦20％，所述ITO层3厚度为20nm～30nm，ITO层3的表面电阻优选为≦400Ω/□，Ω/□为薄膜电阻的单位，即欧姆/平方。

光学调整层112形成于基材层113的上表面上，用于调整入射光的折射率，光学调整层112可为一层或一层以上的结构组合而成。为一低折射率层时，折射率优选为1.35-1.5，厚度优选为5-70nm。光学调整层112可以选择以下材料的一种或多种制得：氟化镁、硅的氧化物，硅的氮氧化物，压克力树脂等，优选二氧化硅但并不限于以上材料。光学调整层112为一层以上的结构时，使用高低折射率层交叠搭配而成，高折射率层之折射率优选为1.6-2.3，低折射率层的折射率优选为1.35-1.5。