[实用新型]一种稳定输出的考夫曼离子源

说明书

技术领域

本发明涉及一种新型离子源，特别涉及一种稳定输出的考夫曼离子源。

背景技术

离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支，离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前，离子源的种类很多，Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置，该装置的基本工作原理为：首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来，这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。

离子束的产生需要有稳定的惰性气体气流，气流一般由单根气体导管出入，气体流量通过气体流量计控制。当气体流量大时，气流不稳定，造成离子束不稳定。

实用新型内容

本实用新型解决上述气流不稳定的技术缺陷，设计一种稳定输出的考夫曼离子源。

一种稳定输出的考夫曼离子源，包括包括进气孔、阴极和阳极，其特征在于：所述装置的进气孔为阵列结构。

所述装置的进气孔至少有两个，进气孔排列均匀。

本实用新型有益效果：多孔阵列装置，减小了单一孔径气流不稳的缺陷，提高反应气体接触面积，增加接触几率，使离子束平稳输出。

附图说明

图1为本结构装置图

图2为进气孔阵列图

具体实施方式

如图1所示，惰性气体由考夫曼离子源的进气孔1进入，与阴极2阳极3的电子束混合反应，进气孔1由原有单一孔径，改造成多孔阵列结构。这一变化，提高反应气体接触面积，增加接触几率，使离子束平稳输出。