[实用新型]一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置有效
申请号: | 201520411012.3 | 申请日: | 2015-06-15 |
公开(公告)号: | CN204649651U | 公开(公告)日: | 2015-09-16 |
发明(设计)人: | 杨国君;魏涛;张卓;李一丁;张小丁;江孝国;石金水 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 谢敏 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 匹配 平行 带电 粒子 照相 装置 | ||
1.一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,包括束流传输线和光学成像结构,其特征在于,所述束流传输线包括呈中心对称的前段四极磁铁组(3)和后段四极磁铁组(5),光学成像结构位于束流传输线的末端,其中前段四极磁铁组(3)和后段四极磁铁组(5)形状完全相同且均包括四块完全相同的四极磁铁,在前段四极磁铁组(3)和后段四极磁铁组(5)的中心对称点上还安装角度准直器(4),前段四极磁铁组(3)的传输矩阵采用四阶矩阵M:
四阶矩阵M为满足平行束入射条件为:M11=0、M22=0、M33=0、M44=0的四阶传输矩阵,以上矩阵元素的前、后下标分别表示该元素所在的行和列。
2.根据权利要求1所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,前段四极磁铁组(3)中有两块四级磁铁位于水平轴上方,另外两块四级磁铁位于水平轴下方,位于水平轴上方的四级磁铁和位于水平轴下方的四级磁铁沿水平方向等间距交替排布。
3.根据权利要求2所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,前段四极磁铁组(3)中的四级磁铁A1和A3以及后四段磁铁组(5)中的四极磁铁B1和B3均为聚焦四极磁铁(8),另外前段四极磁铁组(3)中的四级磁铁A2和A4以及后四段磁铁组(5)中的四级磁铁B2和B4均为散焦四极磁铁(9)。
4.根据权利要求3所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,前段四极磁铁组(3)中的四级磁铁A1和A4以及后四段磁铁组(5)中的四级磁铁B1和B4的电流值均相等,另外前段四极磁铁组(3)中的四级磁铁A2和A3以及后四段磁铁组(5)中的四级磁铁B2和B3的电流值均相等。
5.根据权利要求1所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,在前段四极磁铁组(3)前端还设置被照相样品(2),被照相样品(2)与角度准直器(4)相对于前段四极磁铁组(3)的中心对称点对称。
6.根据权利要求1或5所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,所述光学成像结构包括电光转换屏(6)和CCD相机(7),电光转换屏(6)与被照相样品(2)相对于束流传输线的中心对称点对称,电光转换屏(6)也与角度准直器(4)相对于后段四极磁铁组(5)的中心对称点对称。
7.根据权利要求5所述的一种匹配束流为平行束的带电粒子照相装置,其特征在于,在被照相样品(2)的前端还设置带电粒子束源(1)。
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