[实用新型]镜面皮革有效

专利信息
申请号: 201520414522.6 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN204773912U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 王修正 申请(专利权)人: 浙江南泰合成革有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B27/40;B32B27/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 317000 浙江省台州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 皮革
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种人造皮革领域,更具体地说,它涉及一种镜面皮革。

背景技术

在目前市场中人造皮革运用非常的广泛,尤其是镜面皮革深受人们喜爱,由于镜面皮革可以根据不同强度和色彩、光泽、花纹图案等加工要求加工制造,具有花色品种繁多、边幅整齐、利用率高和价格相对真皮便宜的特点,而目前的人造皮革采用的涂层环保性能较差,且人们在加工的时候毒性气体较多,而且生产出来的人造皮革虽然具有一定的防水能力,但与水接触过长后水还是会进行渗透,导致防水效果不够理想,且当水渗入过多后树脂层的粘附能力也会下降,导致人造皮革时候寿命下降。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种环保、防水能力强、使用寿命长的镜面皮革。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种镜面皮革,包括基布,所述基布上依次涂覆有PU树脂层、镜面树脂层,所述基布为防水经编起毛布,所述PU树脂层为氨基硅烷改性水性聚氨酯层,所述镜面树脂层为干式PU镜面树脂层。

优选的,所述基布与PU树脂层之间设有防霉层。

优选的,所述防霉层为抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层。

优选的,所述抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层由抗菌防霉MDI记忆聚氨酯泡沫均匀涂覆而成。

优选的,所述抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层厚度为0.03-0.05毫米。

优选的,所述防水经编起毛布厚度为0.6-0.8毫米。

优选的,所述氨基硅烷改性水性聚氨酯层厚度为0.06-0.1毫米。

优选的,所述氨基硅烷改性水性聚氨酯层厚度为0.06-0.07毫米。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:防水经编起毛布由平针线圈和带有拉长沉降弧的毛圈线圈纬编而成,且原料均为涤纶纱线,且起毛布上附着有防水剂,能有效的起到防水的作用,且使基布更加的轻薄、柔软,提高了人们触摸时的良好感受,且编织强度高,不容易拉断,且氨基硅烷改性水性聚氨酯层具有良好的环保性能,且的硅羟基在成膜过程中易于脱水而形成致密的Si-O-Si三维交联网络,这不用于聚氨酯在水分散时所形成的微交联网络,从而氨基氨基硅烷改性的水性聚氨酯的吸水率明显降低,耐水性提高,此外,交联结构的存在使得聚氨酯的附着性能好,有效的提高皮革的耐水性,以及提高附着能力,从而提高了使用的寿命。

附图说明

图1为本实用新型镜面皮革实施例的结构图。

附图标记:1、基布;2、防霉层;3、PU树脂层;4、镜面树脂层。

具体实施方式

参照图1对本实用新型镜面皮革实施例做进一步说明。

一种镜面皮革,包括基布1,所述基布1上依次涂覆有PU树脂层3、镜面树脂层4,所述基布1为防水经编起毛布,所述PU树脂层3为氨基硅烷改性水性聚氨酯层,所述镜面树脂层4为干式PU镜面树脂层4。

所述基布1与PU树脂层3之间设有防霉层2。

所述防霉层2为抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层。

所述抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层由抗菌防霉MDI记忆聚氨酯泡沫均匀涂覆而成。

所述抗菌防霉MDI记忆聚氨酯层厚度为0.03-0.05毫米。

所述防水经编起毛布厚度为0.6-0.8毫米。

所述氨基硅烷改性水性聚氨酯层厚度为0.06-0.1毫米。

所述氨基硅烷改性水性聚氨酯层厚度为0.06-0.07毫米。

防水经编起毛布由平针线圈和带有拉长沉降弧的毛圈线圈纬编而成,且原料均为涤纶纱线,且起毛布上附着有防水剂,能有效的起到防水的作用,且使基布1更加的轻薄、柔软,提高了人们触摸时的良好感受,且编织强度高,不容易拉断,且氨基硅烷改性水性聚氨酯层具有良好的环保性能,且的硅羟基在成膜过程中易于脱水而形成致密的Si-O-Si三维交联网络,这不用于聚氨酯在水分散时所形成的微交联网络,从而氨基硅烷改性的水性聚氨酯的吸水率明显降低,耐水性提高,此外,交联结构的存在使得聚氨酯的附着性能好,有效的提高皮革的耐水性,以及提高附着能力,从而提高了使用的寿命。

抗菌防霉MDI记忆聚氨酯泡沫具有卫生自洁功能,且毒性低,还有良好的抗菌抑菌性能,还具有良好的环保效果,且能有效的运用在人造革与合成革内,有效的防止皮革内渗水而产生霉变,从而有效的提高了皮革的使用寿命。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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