[实用新型]光反应设备

权利要求书

1.一种光反应设备，包括：

反应容器，所述反应容器中限定出光反应空间，并且所述反应容器是由透明材料制成的；以及

光源，所述光源设置在所述反应容器的外部。

2.根据权利要求1所述的光反应设备，其特征在于，所述反应容器是由透明玻璃制成的。

3.根据权利要求1或2所述的光反应设备，其特征在于，进一步包括支架，并且所述光源设置在所述支架上。

4.根据权利要求3所述的光反应设备，其特征在于，进一步包括竖向滑轨，所述竖向滑轨设置在所述支架上，并且所述光源可移动地设置在所述竖向滑轨上，

任选地，所述竖向滑轨与所述反应容器的竖轴平行。

5.根据权利要求4所述的光反应设备，其特征在于，所述光反应设备包括多个所述光源和多个所述竖向滑轨，并且每个所述竖向滑轨上设置至少一个所述光源；

任选地，所述多个竖向滑轨平均间隔设置。

6.根据权利要求3所述的光反应设备，其特征在于，进一步包括至少一个横向滑轨，所述至少一个横向滑轨设置在所述支架上，并且在每个所述横向滑轨上可移动地设置有至少一个所述光源。

7.根据权利要求1所述的光反应设备，其特征在于，进一步包括：

搅拌装置，所述搅拌装置设置在所述光反应空间中，

扰流板，所述扰流板设置在所述反应容器的内壁上。

8.根据权利要求1所述的光反应设备，其特征在于，进一步包括反射板，所述反射板设置在所述光源远离所述反应容器的一侧。

9.根据权利要求1所述的光反应设备，其特征在于，

进一步包括：液面限位件，所述液面限位件设置在所述反应容器的内壁上，并且所述液面限位件距离所述反应容器底部的高度为H，

所述光源与所述反应容器竖轴的平均距离为R2，

其中，H与R2满足关系式：0.5≦H/R2≦2。

10.根据权利要求9所述的光反应设备，其特征在于，所述光源与所述反应容器底部的垂直距离为H1，其中，H与H1满足关系式0.1≦H1/H≦1。