[实用新型]用于钨合金环的整内形的可调式模具有效

专利信息
申请号: 201520417127.3 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN204770191U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 陈武利;韦火萍 申请(专利权)人: 珠海美利信新材料技术有限公司
主分类号: B21D37/10 分类号: B21D37/10
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 邹常友
地址: 519000 广东省珠海市国家高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 合金 整内形 调式 模具
【说明书】:

【技术领域】

实用新型涉及一种整外形的模具,特别是一种用于钨合金环的整内形的可调式模具。

【背景技术】

粉末冶金钨基环类整内模主要分上模座、下模座、内冲和上模冲四大主要结构,传统的整内冲就是一根符合产品尺寸的芯轴。最大的不足在于,随着整形模的使用心轴的尺寸磨损快,很快一套整内模就因尺寸磨损而报废。

因此,我们对该瓶颈工序进行技术攻关,研制出一种用于钨合金环的整内形的可调式模具。

【实用新型内容】

本实用新型的目的所要解决的技术问题是要提供一种用于钨合金环的整内形的可调式模具,它结构简单,结构设计合理,整形后圆度好、尺寸具有一致性;安全可靠;耐磨性能好,使用寿命长而且工艺成本大大下降,生产效率大大提高,特别是整形尺寸随着模具尺寸的磨损可以进行调整,极大的提高了每套模具的使用寿命。因此,它是一种技术性和经济性均具有优越性能的产品。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是一种用于钨合金环的整内形的可调式模具,它包括:

上模机构;其包括上模板和上冲模块,所述上模板与所述上冲模块相固接,所述上冲模块具有颈部和主体,所述主体具有向下敞开口的内腔;所述主体具有呈圆形状的底面;

下模机构;其包括上固定板、可调芯轴、多个整形活动模块、可调模块、垫板和固定板;所述垫板装设于所述固定板上,所述可调模块设有导轨,所述整形活动模块与所述导轨配合向外张开或缩回;所述上固定板锁紧于所述各整形活动模块。

于本实用新型的一个或多个实施例中,所述整形活动模块数量为四块,它们由所述可调芯轴的伸缩来实现所述整形活动模块向外张开或缩回。

于本实用新型的一个或多个实施例中,所述整形活动模块设有凸台,所述上固定板采用螺栓锁紧于所述凸台。

于本实用新型的一个或多个实施例中,所述整形活动模块表面设有耐磨层。

本实用新型同背景技术相比所产生的有益效果:

本实用新型采用了上述技术方案,它结构简单,结构设计合理,整形后圆度好、尺寸具有一致性;散热快、安全可靠;耐磨性能好,使用寿命长而且工艺成本大大下降,生产效率大大提高。因此,它是一种技术性和经济性均具有优越性能的产品。

【附图说明】

图1为本实用新型实施方式中用于钨合金环的整内形的可调式模具的结构示意图;

图2为实用新型实施方式中可调芯轴22、多个整形活动模块23、可调模块24和垫板25的组合的立体结构示意图。

【具体实施方式】

下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。

在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向”、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。

此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“数个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。

在实用新型中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。

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