[实用新型]一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置有效
| 申请号： | 201520422125.3 | 申请日： | 2015-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN204680895U | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | 杨英;胡东霞;代万俊;袁强;张鑫;王德恩;赵军普;薛峤;张晓璐;周维;邓学伟;黄小霞 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01S3/0933 | 分类号： | H01S3/0933;H01S3/101;H01S3/10 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 华冰 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 ld 阵列 泵浦光 均匀 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，包括LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜、激光介质和脉冲式驱动电源，所述LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜和激光介质依次同光轴排列，所述电光偏转器与脉冲式驱动电源连接，所述激光介质的上能级寿命不低于100μs量级。
2.根据权利要求1所述的一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，所述LD阵列设置为自带准直透镜结构。
3.根据权利要求2所述的一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，所述聚焦透镜表面镀有对泵浦光高透过率的膜。
4.根据权利要求3所述的一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，所述电光偏转器、聚焦透镜和激光介质的通光口径相匹配。
5.根据权利要求4所述的一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，所述脉冲式驱动电源输出电压的重复频率不低于1kHz量级，电压幅值不低于100V量级。
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