[实用新型]一种雾化沉积室

说明书

技术领域

本实用新型涉及雾化热分解沉积薄膜的成形技术领域。

背景技术

近年来，雾化热分解沉积装置广泛用于化学法薄膜制备技术中，其中气雾沉积装置是其薄膜高质量均匀沉积的关键设备。

目前主流的雾化沉积装置主要是采用保护罩结构的全封闭装置和半封闭装置，其中全封闭装置是将将雾化喷头或其雾化后的气流和镀制薄膜的基板共同约束在一个相对密闭的空间区域内进行薄膜沉积；半封闭装置是将雾化后的气流在雾化罩的约束下输运到基板表面，在相对开放的大气环境下进行薄膜沉积。前者主要用于小尺寸基板表面的间歇性薄膜热分解沉积制备，薄膜沉积同时在整个基板表面进行，生产效率低、成本高，同时薄膜的均匀性难以保证；而后者主要用于连续量产的薄膜热分解沉积制备，产业化技术应用较多，但是废气污染严重、生产环境恶劣，同时，沉积气雾的流动和分布控制困难，薄膜表面质量差、工艺稳定性和重复性差。这些都成为雾化热分解沉积薄膜产业化应用和技术推广的主要障碍。

因此，如何控制雾化沉积过程中的流场分布、沉积雾滴的均匀性、热分解反应副产物的收集和集中处理排放是雾化沉积室装置研究的核心技术问题，也目前雾化热分解薄膜沉积技术产业化应用的关键技术。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供简捷紧凑，能够有效控制雾化沉积过程中流场分布、沉积雾滴的均匀性、热分解反应副产物的收集、适合工业化生产的一种雾化沉积室。

本实用新型主要由气雾缓冲室、气雾隔离室和废气回收室组成，在气雾缓冲室上设置气雾导入口，在气雾隔离室上设置净气导入口，在废气回收室上设置废气导出口；所述气雾隔离室和废气回收室并排设置，气雾隔离室和废气回收室分别设置在气雾缓冲室的下方，并在气雾隔离室和废气回收室之间设置气雾导出狭缝，所述气雾缓冲室的下端与所述气雾导出狭缝的上端联通，在气雾隔离室的下端设置气雾约束狭缝，在废气回收室的下端设置气雾回收狭缝，所述气雾导出狭缝的下端设置在所述气雾约束狭缝和气雾回收狭缝之间，气雾导出狭缝与气雾约束狭缝和气雾回收狭缝相互平行布置。

使用时，将本实用新型设置在等处理的基板上方，并可以通过传送装置将基板以一定的均匀速度自本实用新型上方均匀通过。一般本实用新型的气雾导出狭缝、气雾约束狭缝和气雾回收狭缝的长度与待处理的基板宽度相等。

本实用新型在雾化热分解沉积中的工作原理：具有一定压力的净化气体通过净气导入口进入气雾隔离室内形成均匀分布的净化气体，并经由气雾约束狭缝流出，在气雾隔离室和基板之间的气隙内形成正压隔离气垫，可有效防止气雾向外侧。

通过在废气回收室的废气导出口的抽气泵，使自气雾回收狭缝进入废气回收室内的气体形成均匀分布的负压，也使在废气回收室和基板之间的气隙内形成负压，该负压引导气雾导出狭缝流出的气雾形成闭合回路。

镀膜用雾化气体经气雾导入口进入气雾缓冲室内，形成均匀分布的气雾，通过气雾导出狭缝定向输运到基板的表面，和气雾回收狭缝一起在基板表面区域内形成气雾的闭合回路，在该回路区域内，气雾在基板表面热分解沉积形成薄膜。

本实用新型结构简单、合理，没有机械运动部件，易维护，气雾沉积过程中形成闭合回路、流场稳定、工艺重复性好，实现了连续化的膜沉积，提高生产效率，也提高产品质量。同时废气可集中处理后排放，无污染环境友好；沉积区域限定在基板表面的气隙内，薄膜沉积速率和气雾利用率高，可实现高质量快速沉积，适合工业化连续生产的雾化热分解薄膜制备工况。

进一步地，本实用新型在所述气雾导入口密封连接气雾导入管，所述气雾导入管的内端伸入于气雾缓冲室中。通过气雾导入管伸入于气雾缓冲室中，可提高气雾缓冲室中内气雾的均匀分布，以使在气雾导出狭缝得到均匀分布的气雾，提高沉积地均匀性。

同理，本实用新型还在所述净气导入口密封连接气体导入管，所述气体导入管的内端伸入于气雾隔离室中；还可在所述废气导出口密封连接废气导出管，所述废气导出管的内端伸入于废气回收室中。

另外，为了进一步方便生产制作，使结构更加简单、紧凑，也利于提高沉积的均匀性，本实用新型所述气雾缓冲室、气雾隔离室和废气回收室还可以分别为矩形体，气雾缓冲室、气雾隔离室和废气回收室的长度相同。

附图说明

图1为本实用型的一种结构示意图。

图2为图1中的左侧向正视图。

具体实施方式