[实用新型]气体除臭洗涤设备有效
申请号: | 201520422891.X | 申请日: | 2015-06-18 |
公开(公告)号: | CN205031596U | 公开(公告)日: | 2016-02-17 |
发明(设计)人: | 翁胜方 | 申请(专利权)人: | 新苗生物科技有限公司 |
主分类号: | A61L9/01 | 分类号: | A61L9/01 |
代理公司: | 深圳冠华专利事务所(普通合伙) 44267 | 代理人: | 诸兰芬 |
地址: | 中国台湾桃园市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 除臭 洗涤 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及除臭设备技术领域,特别是一种适用于处理有机堆肥产生之废气,对所述废气进行除臭并能降低所述废气之排放温度的气体除臭洗涤设备。
背景技术
堆肥系透过自然发酵过程将有机原料转换为堆肥,堆肥为一完全肥料,除能提供作物生长所需的全部要素,对于土壤亦具有能疏松土壤及增强水分保持能力的效果,而化学肥料则无此优点。由于堆肥酦酵过程会产生臭味,依照堆肥原料来源不同,其臭味组成份也有所不同,一般来说禽畜粪便为原料的臭味以氨气、有机胺类及硫化氢为主要大宗,厨余当作原料的堆肥制作过程中以氨气、有机胺类及短链脂肪酸为主。因此,堆肥生产业者通常需要设置除臭设备用于消除堆肥过程产生之臭味,并且符合环保的要求。
已知的除臭技术可分为化学洗涤法,物理吸附法与生物处理法,其中技术较为成熟且广被用户为化学洗涤法及物理吸附法。化学洗涤法常用酸性或碱性溶液对臭味进行反应,利用酸碱中和原理将臭味有效吸收;例如2013年4月11日公告的台湾新型专利M450422「有机废气之高级氧化处理装置」以及2013年5月1日公告的台湾新型专利M452008「有机废气之氧化处理装置」,两者均揭露了一种使用氧化剂的化学洗涤除臭设备,其目的系用于处理半导体厂在生产过程中产生的有机废气,其中揭露的处理装置除了洗涤塔之外还包括了数个氧化槽,因此两种技术所揭露的有机废气处理设备的建置成本极高,而且需占用较大的面积。
物理吸附法常用活性碳或其他过滤材料来吸附废气中产生臭味的物质,惟其缺点是当过滤材料的吸附容量饱和后即需更换,在2008年6月1日公告的台湾发明专利I297281「废气除臭装置及其方法」,其中即提出了一种利用沸石层作为过滤材料并结合燃烧处理用以去除臭味的废气处理装置。另外,在2011年5月21日公告的台湾新型专利M404059「处理挥发性有机废气之净化装置」,其中揭露了一种结合焚化单元及洗涤单元的有机废气净化装置,利用高温焚化方式对臭味进行去除,利用臭味物质会被热分解变成无臭小分子进而达到除臭的效果,但是上述的废气处理设备同样具有建置成本极高以及设备占用面积较大的问题。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种适用于处理有机堆肥产生之废气,对所述废气进行除臭并能降低所述废气之排放温度的气体除臭洗涤设备。
为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种气体除臭洗涤设备,包含:一洗涤塔、一第一蓄水槽、一第二蓄水槽,一第一药剂储存容器,一控制器、一第一泵浦和一第二泵浦;该洗涤塔包括一气体入口、一气体出口和至少二个彼此衔接且连通的气体处理区,任意两个所述气体处理区的衔接处设有一液气分流器,任一该气体处理区包含至少一洗涤腔、一排水口和一喷水口,该喷水口设于该洗涤腔之顶端,该第一药剂储存容器之出口经由一第一电磁阀连接该第一蓄水槽,控制器电性连接该第一电磁阀、该第一泵浦以及该第二泵浦,该控制器控制该电磁阀之动作将该第一药剂储存容器中的一药剂注入该第一蓄水槽,该第一泵浦将该第一蓄水槽内储存的含有该药剂的一洗涤液输送至该第一气体处理区的该洗涤腔中的该喷水口,并喷洒至该第一气体处理区的该洗涤腔之中,再经由该排水口流回该第二蓄水槽,该第二泵浦将该第二蓄水槽内储存的清水输送至该第二气体处理区的该洗涤腔中的该喷水口,并喷洒至该第二气体处理区的该洗涤腔之中,再经由该排水口流回该第二蓄水槽。
上述技术方案中,包括一排气装置,该排气装置可设置于该洗涤塔的该气体出口,用以抽出经除臭处理的废气。
上述技术方案中,在该排气装置的废气排出口处还设有一检测口。
上述技术方案中,该气体处理区包括一第一气体处理区和一第二气体处理区,该第二气体处理区位于该第一气体处理区的上方。
上述技术方案中,该液气分流器包括:一导流管和一分流罩;该导流管的两端分别具有一入口与一出口,该导流管的该入口固设于该第二气体处理区之该洗涤腔的底面,该底面为一不透水的隔板,该底面对应该入口之处具有一穿孔,该导流管的该入口能与下方之该第一气体处理区的该洗涤腔连通,该导流管的外侧与该第二气体处理区之该洗涤腔的该底面及侧壁构成一集水区,该集水区设有该排水口,由该集水区收集的清水再经由连接该排水口的一排水管流回至该第二蓄水槽;该分流罩系为一种开口朝下的盆状元件,该分流罩设于该导流管之该出口的气流排出侧,该第二气体处理区之该洗涤腔顶端的该喷水口系布设于靠近该第二气体处理区之该洗涤腔的侧壁且高于该分流罩。
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