[实用新型]光学玻璃熔化池的保护结构有效

专利信息
申请号: 201520431727.5 申请日: 2015-06-23
公开(公告)号: CN204958702U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 李明;朱志新;陆明新;邓宇;但启林;蒋冬梅 申请(专利权)人: 成都光明光电股份有限公司
主分类号: C03B5/16 分类号: C03B5/16
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 蒲敏
地址: 610100 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学玻璃 熔化 保护 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及光学玻璃熔化池的一种保护结构,特别是涉及镧系光学玻璃池炉熔化池的一种保护结构。

背景技术

在光学玻璃制造过程中,一般是将原料投入到熔化池(也可以为坩埚)中进行加热熔化,在熔化池中完成原料从固态转为液态的过程。光学玻璃熔化池一般采用石英、金属等材料制成,对于镧系光学玻璃来说,由于金属材质的熔化池能够有效抵抗镧系光学玻璃的侵蚀,在保证产品质量的同时能够有效降低生产成本,因此,其熔化池材质一般选择金属材料,同时,金属材质还可重复回收利用。但是,金属材质在高温下抗冲击能力差,金属材料的熔化池在长期使用过程中,若是裸露,极易在使用过程中出现拉裂等现象,严重影响熔化池的使用寿命。

目前通过在金属材质的熔化池外面再套一个保护结构的方式保护熔化池,但该熔化池保护结构传热效果差,熔化池化料过程需要通过提高温度来保证化料质量,不利于玻璃的气泡熔存和透过率指标。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种光学玻璃熔化池的保护结构,该保护结构传热效果好,可改善光学玻璃产品质量。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是:光学玻璃熔化池的保护结构,包括主体,在所述主体的底部或侧面开孔、开槽、切缝或进行减薄处理。

进一步的,所述主体为半球体、正方体、长方体或圆柱体。

更进一步的,所述主体为半球体或圆柱体。

进一步的,所述主体采用耐火材料制成。

更进一步的,所述主体采用使用温度在1200-1450℃的无机非金属耐火材料制成。

更进一步的,所述主体采用Fe2O3含量少或者不含Fe2O3的无机非金属耐火材料制成。

进一步的,所述主体的厚度为20-80mm。

更进一步的,所述主体的厚度为20-50mm。

更进一步的,所述主体的厚度为25-40mm。

本实用新型的有益效果是:由于在本实用新型的保护结构上进行开槽、开孔等处理,可以提高熔化池的传热效率,在满足工艺条件的情况下大幅度降低熔化池的工艺温度,提高熔化池部玻璃液的气体容存比,促进光学玻璃熔炼后续工艺中气泡缺陷的消除,同时工艺温度的降低能够有效改善光学玻璃透过率指标;本实用新型的保护结构能够有效保护金属材质熔化池,防止熔化池在高温下变形,延长熔化池使用寿命。

附图说明

图1是长方体的保护结构的主视图。

图2是图1的A-A剖视图。

图3是图1的B-B剖视图。

图4是长方体的保护结构的立体图。

图5是圆柱体的保护结构的主视图。

图6是图5的C-C剖视图。

图7是圆柱体的保护结构的立体图。

图8是本实用新型的保护结构的工作状态的局部剖视示意图。

具体实施方式

本实用新型的光学玻璃熔化池的保护结构包括主体1,主体1可以为半球体、正方体、长方体、圆柱体,如图1-7所示,根据光学玻璃制造工艺及熔化池结构,保护结构优选为半球体、圆柱体。

为了提高本实用新型的保护结构的传热效率,大幅降低熔化池工艺温度,改善光学玻璃质量指标,本实用新型的保护结构在底部或侧面等部位开孔4、开槽3、切缝或进行减薄处理,优选开槽或开孔,如图1-图7所示。

由于光学玻璃熔炼属于高温熔炼,光学玻璃熔化池工艺温度较高,因此本实用新型的保护结构的主体1必须采用耐火材料制成,优选使用温度在1200-1450℃的无机非金属耐火材料,且尽量选择Fe2O3含量少或者不含Fe2O3的无机非金属耐火材料。

为了起到保护熔化池作用,提高熔化池使用寿命,考虑到高温强度性,本实用新型的保护结构的主体1的厚度为20-80mm,优选厚度为20-50mm,最优选厚度为25-40mm。

工作时,将本实用新型的保护结构1套在熔化池2的外面,如图8所示,通过保护结构1上的开槽3或开孔4,热传递效率得到有效提升,在相同的热能转换情况下,熔化池2的气氛温度能够有效降低,也就是工艺温度降低(一般能降低20-50℃),熔化池玻璃液气体容存比得到有效提升,有利于光学玻璃生产过程中后部气体缺陷的消除,同时能够有效提高光学玻璃产品透过率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都光明光电股份有限公司,未经成都光明光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520431727.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top