[实用新型]表面具自体修复涂层的模内转印膜元件及具该元件的壳体

权利要求书

1.一种模内转印膜元件，其特征在于，包含有：

基底层，具有一个内表面；

离型层，是形成于该基底层的内表面上；

自体修复涂层，是形成于该离型层上；

油墨层，是形成于该自体修复涂层上；

第一热抵挡层，是形成于该油墨层上；以及

接着层，是形成于该第一热抵挡层上。

2.如权利要求1所述的模内转印膜元件，其特征在于，更包含有一第二热抵挡层，该第二热抵挡层是形成在该基底层与该离型层之间。

3.如权利要求1所述的模内转印膜元件，其特征在于，更包含有：第一密着层、第二密着层以及第三密着层；该第一密着层是形成在该自体修复涂层与该油墨层之间；该第二密着层是形成在该油墨层与该第一热抵挡层之间；该第三密着层是形成在该第一热抵挡层与该接着层之间。

4.如权利要求1所述的模内转印膜元件，其特征在于，该基底层的内表面为结构化表面。

5.如权利要求1所述的模内转印膜元件，其特征在于，该第一热抵挡层由热固性树脂、紫外线固化树脂或电子束固化树脂中任一形成。

6.一种壳体，其特征在于，包含有：主体，以及模内转印膜元件；该主体具有一个外表面，并由高分子材料构成；该模内转印膜元件包括有接着层、第一热抵挡层、油墨层与自体修复涂层；该接着层是形成于该主体的外表面上；该第一热抵挡层是形成于该接着层上；该油墨层是形成于该第一热抵挡层上；该自体修复涂层是形成于该油墨层上，并具有一外表面。

7.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，更包含有：第一密着层、第二密着层以及第三密着层，该第一密着层是形成在该自体修复涂层与该油墨层之间；该第二密着层是形成在该油墨层与该第一热抵挡层之间；该第三密着层是形成在该第一热抵挡层与该接着层之间。

8.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，该自体修复涂层的外表面为结构化表面。

9.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，该第一热抵挡层由热固性树脂、紫外线固化树脂或电子束固化树脂中任一形成。

10.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，该第一热抵挡层的熔点大于250℃。

11.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，该第一热抵挡层的厚度介于3μm～50μm之间。