[实用新型]一种红外光谱分析样片压片模具有效
申请号: | 201520475060.9 | 申请日: | 2015-06-29 |
公开(公告)号: | CN204807372U | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 赵铁英 | 申请(专利权)人: | 天津市先权工贸发展有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301700 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 红外 光谱分析 样片 压片 模具 | ||
技术领域
本实用新型属于科学分析仪器技术领域,具体涉及一种红外光谱分析样片压片模具。
背景技术
红外光谱属于分子光谱,是确定分子组成和结构的有力工具。红外光谱分析应用非常广泛,可以说对于任何样品,只要样品的量足够多,都可以得到一张红外光谱。要得到一张高质量的样品的红外光谱图,除了有性能优良的仪器,选用合适的制作样品方法外,制样方法也很重要。目前主要采用压片法来制作进行红外光谱分析的样片,然后放到原位反应装置中进行红外光谱分析。当前,样片制作模具在压片后不方便取取压好的样品,因此,有必要予以改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于解决上述的技术问题而提供一种红外光谱分析样片压片模具,以解决现有压片模具不好取片的问题。
为实现本实用新型的目的,本实用新型提供了一种红外光谱分析样片压片模具,包括模底座以及与所述模底座相配合的模套,所述模套包括外模套以及套设于所述外模套内的内模套,所述内模套包括第一内模套以及第二内模套,所述第一内模套以及第二内模套相互配合接触连接形成所述内模套,所述模底座上端面具有可伸入所述内模套的型腔内的柱状部,所述模套的上方具有与所述柱状部相配合的用于样片成型的压头;所述内模套的上端面具有圆锥形槽部,所述圆锥形槽部的槽底与所述型腔的上端开通。
进一步的,所述外模套的高度与所述内模套的高度一致。
进一步的,所述第一内模套以及第二内模套的配合接触面具有卡接条和/或卡合槽装置。
本实用新型,与现有技术相比,通过包括有模底座以及与所述模底座相配合的模套,所述模套包括外模套以及套设于所述外模套内的内模套,所述内模套包括第一内模套以及第二内模套,所述第一内模套以及第二内模套相互配合接触连接形成所述内模套,所述模底座上端面具有可伸入所述内模套的型腔内的柱状部,所述模套的上方具有与所述柱状部相配合的用于样片成型的压头;所述内模套的上端面具有圆锥形槽部,所述圆锥形槽部的槽底与所述型腔的上端开通,特别是将内模套设计为包括第一内模套以及第二内模套,在取下外套后,直接将内模套打开成两个半体,这样很方便将样品压片自柱状部上取下。
附图说明
图1为本实用新型的红外光谱分析样片压片模具的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解为此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限制本实用新型的保护范围。
如图1所示,本实用新型提供了一种红外光谱分析样片压片模具,包括模底座1以及与所述模底座相配合的模套,所述模套包括外模套3以及套设于所述外模套内的内模套,所述内模套包括第一内模套4以及第二内模套5,所述第一内模套以及第二内模套相互配合接触连接形成所述内模套,所述模底座上端面具有可伸入所述内模套的型腔6内的柱状部2,所述模套的上方具有与所述柱状部相配合的用于样片成型的压头7;所述内模套的上端面具有圆锥形槽部8,所述圆锥形槽部8的槽底与所述型腔的上端开通。
进一步的,所述外模套的高度与所述内模套的高度一致。
进一步的,所述第一内模套4以及第二内模套5的配合接触面具有卡接条和/或卡合槽装置。
具体实现上,所述第一内模套4以及第二内模套5均为截面为半圆形结构,扣合接触后形成一个圆柱状体,可以是所述第一内模套4对应于所述第二内模套的接触面上设有卡接条或卡合槽装置,对应在所述第二内模套5的接触面设有对应的卡合槽或卡接条装置。
本实用新型,与现有技术相比,通过包括有模底座以及与所述模底座相配合的模套,所述模套包括外模套以及套设于所述外模套内的内模套,所述内模套包括第一内模套以及第二内模套,所述第一内模套以及第二内模套相互配合接触连接形成所述内模套,所述模底座上端面具有可伸入所述内模套的型腔内的柱状部,所述模套的上方具有与所述柱状部相配合的用于样片成型的压头;所述内模套的上端面具有圆锥形槽部,所述圆锥形槽部的槽底与所述型腔的上端开通,特别是将内模套设计为包括第一内模套以及第二内模套,在取下外套后,直接将内模套打开成两个半体,这样很方便将样品压片自柱状部上取下。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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