[实用新型]一种低压化学气相沉积炉用正硅酸乙酯补充系统有效
申请号: | 201520475547.7 | 申请日: | 2015-07-06 |
公开(公告)号: | CN204918758U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 苗利刚;邓德翼;史舸;李战国;李海涛;寇文辉 | 申请(专利权)人: | 麦斯克电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 罗民健 |
地址: | 471000 河南省洛阳*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低压 化学 沉积 炉用正 硅酸 补充 系统 | ||
1.一种低压化学气相沉积炉用正硅酸乙酯补充系统,其特征在于:包括储液罐(1)、补液罐(2)和用于测量补液罐(2)重量的称重装置(3),其中,补液罐(2)上设有分别向沉积炉腔体输送正硅酸乙酯的进液管Ⅰ(201)和向补液罐(2)内补充正硅酸乙酯的补液管(202),所述储液罐(1)上设置有向其内输送正硅酸乙酯的进液管Ⅱ(101),进液管Ⅱ(101)上连接有一根连接管(4),连接管(4)与补液管(202)以可拆卸方式连通,所述进液管Ⅰ(201)上设置有进液阀Ⅰ(203),补液管(202)上依次设置有补液阀Ⅰ(204)和补液阀Ⅱ(205),连接管(4)上设置有手动阀(401),进液管Ⅱ(101)上依次设置有进液阀Ⅱ(102)和进液阀Ⅲ(103),且连接管(4)与进液管Ⅱ(101)连接的一端连接点位于进液阀Ⅱ(102)和进液阀Ⅲ(103)之间的位置。
2.根据权利要求1所述的一种低压化学气相沉积炉用正硅酸乙酯补充系统,其特征在于:所述储液罐(1)上设置有备用管(104),备用管(104)上设置有控制阀(105)。
3.根据权利要求1所述的一种低压化学气相沉积炉用正硅酸乙酯补充系统,其特征在于:所述补液罐(2)、称重装置(3)、安装在补液罐(2)上的进液管Ⅰ(201)和补液管(202)构成一路供液线路,该供液线路为多条,每条供液线路中的补液管(202)均与为连接管(4)连通。
4.根据权利要求1所述的一种低压化学气相沉积炉用正硅酸乙酯补充系统,其特征在于:所述称重装置(3)输出重量信号给智能控制器,智能控制器根据该信号控制补液阀Ⅰ(204)的打开或关闭,以实现对补液罐(2)的自动补液。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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