[实用新型]一种磁控溅射靶枪

权利要求书

1.一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述磁控溅射靶枪为圆柱形磁控溅射靶枪，包括基座、磁靶和靶材，所述磁靶固定于基座之上，所述靶材通过旋转轴固定在磁靶上；所述磁靶包括磁芯和环状磁铁座，所述环状磁铁座上设有均匀排列的磁铁块，形成中心-外环的环状磁靶设计；所述磁芯和环状磁铁之间设有冷却装置，所述冷却装置包括上下两个无氧铜水冷以及位于上下两个无氧铜水冷之间的导热板。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述旋转轴位于磁芯之上。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述磁控溅射靶枪还包括绝缘座和真空电极，所述绝缘座和真空电极位于基座下面。

4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述绝缘座上设有铜管电极引入，引入电极与真空电极相连接。

5.根据权利要求3或4所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述绝缘座为铁氟龙绝缘座。

6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述导热板为氮化铝陶瓷导热板。

7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述磁控溅射靶枪还包括外壳。

8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射靶枪，其特征在于：所述基座的材料为430不锈钢。