[实用新型]一种澄清池

说明书

技术领域

本实用新型涉及工业废水处理领域，具体涉及一种水处理用澄清池。

背景技术

在电力、化工、海水淡化等行业高盐废水。如在多晶硅还原、有机硅等生产领域，污水中含有高浓度的活性硅，比如SiO2、氯硅烷等、此类废水水质硬度高，腐蚀性强，含盐量高，水质非常复杂，且水质波动非常大，提出的废水处理系统工程方案，尤其是减少活性硅，例如：SiO2，需要使用结构紧凑效率高的澄清池进行脱硅等进行处理。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型目的是，提供一种适用于电力、化工、海水淡化、多晶硅还原、有机硅等生产领域等行业高盐水的前道预处理装置，对废水进行澄清处理，尤其是结构紧凑效率高的澄清池。

本实用新型技术方案是，一种澄清池，快速混凝搅拌反应池、慢速混凝推流式反应池和沉淀浓缩区；所述快速混凝搅拌反应池和慢速混凝推流式反应池前后并列、且上部设有搅拌装置，快速混凝搅拌反应池的上方设有进水口，快速混凝搅拌反应池与慢速混凝推流式反应池之间设有隔离板，隔离板的开口在下方，慢速混凝推流式反应池与沉淀浓缩区设有隔离装置，隔离装置包括第二隔离板和第三隔离板二块平行的且垂直于地面的隔离板，第二隔离板和第三隔离板的间隔为15-25cm；第二隔离板开口在下方，第三隔离板开口在上方。

进一步的，沉淀浓缩区包括斜管沉淀分离单元和排泥斗，排泥斗在沉淀分离单元的下部，斜管沉淀单元的上方设有集水槽系统，斜管沉淀单元的底部为排泥斗；排泥斗上方设有刮泥机。澄清水由集水槽9排出。

本实用新型的应用pH值：pH值为9～10.8；镁剂脱硅的最佳pH值为10.1～10.3；为保证pH值，在处理系统中加入石灰水或苛性钠；镁剂或铁盐脱硅时同时添加混凝剂，混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，所用的混凝剂为铁盐，其添加量为0.2～0.35mmol/L；水温：通过热泵换器加热到25-40℃；然后进入高密度沉淀池即澄清器进行澄清，水在澄清器中的停留时间：水温为25-40℃时，实际停留时间应＞1h，小于2h；

本实用新型的有益效果：在本实用新型中脱硅作为预处理工艺，选用化学、混凝脱硅，经高密度沉淀池沉淀和再经多介质过滤器进行过滤，排放的可以达到高的排放标准。本实用新型澄清池结构紧凑，水流可控制、处理效率高，水处理的质量高。本实用新型澄清池还具有的优点：污泥循环提高了进泥的絮凝能力，使絮状物更均匀密实；斜管布置提高了沉淀效果，具有较高的沉淀速度，可达20m/h；澄清水质量较高；对进水波动不敏感，并可承受较大范围的流量变化。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。澄清池的结构如图1所示，快速混凝搅拌反应池1、慢速混凝推流式反应池2；进水口3、搅拌装置4、测量仪表5、第二隔离板6、第三隔离板7、隔离板8、集水槽9、斜管沉淀单元10、刮泥机11、排泥泵12。

澄清池是一种高速一体式沉淀/浓缩池，一体化反应区设计；

●反应区到沉淀区较低的流速变化；

●沉淀区到反应区的污泥循环；

●采用有机絮凝剂；

●采用斜管沉淀布置。

澄清池设计正常进水SS≤300mg/L，短时内进水浊度不大于3000NTU时，出水浊度不大于10NTU。

澄清池主要由快速混凝搅拌反应池、慢速混凝推流式反应池和沉淀浓缩区(即混合单元、反应区、沉淀浓缩区)；所述快速混凝搅拌反应池和慢速混凝推流式反应池的上部设有搅拌装置，快速混凝搅拌反应池的上方设有进水口，快速混凝搅拌反应池与慢速混凝推流式反应池之间设有隔离板，隔离板的开口在下方，慢速混凝推流式反应池与沉淀浓缩区设有隔离装置，隔离装置包括第二隔离板和第三隔离板二块平行的且垂直于地面的隔离板，第二隔离板和第三隔离板的间隔为15-25cm；第二隔离板开口在下方，第三隔离板开口在上方；沉淀浓缩区包括斜管沉淀分离单元和排泥斗，排泥斗在沉淀分离单元的下部，斜管沉淀单元的上方设有集水槽系统，斜管沉淀单元的底部为排泥斗，澄清水由集水槽9排出；排泥斗上方设有刮泥机。以及斜管分离区组成。

1)混合单元：采用快速混凝搅拌反应池即混合池，通过快速搅拌机将投加的药剂进行快速混合。

2)反应区：即慢速混凝推流式反应池：将原水(通常已经过预混凝)引入到反应池底板的中央。使反应池内水流均匀混合，并为絮凝和聚合电解质的分配提供所需的动能量。