[实用新型]一种用于成像的聚合物薄膜有效
| 申请号： | 201520488919.X | 申请日： | 2015-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN205272920U | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 张健 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | B42D25/342 | 分类号： | B42D25/342;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 215316 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 成像 聚合物 薄膜 | ||
1.一种用于成像的聚合物薄膜，其特征在于，所述聚合物薄膜由第一聚合物层和第二聚合物层构成；
所述第一聚合物层的第一表面形成有微透镜结构；
所述第二聚合物层的第二表面形成有容纳结构，所述容纳结构用于形成通过所述微透镜结构成像的图文结构；
其中，所述第一表面和所述第二表面相背对设置。
2.根据权利要求1所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述容纳结构内填入有填充物以形成所述图文结构，所述填充物与所述第一聚合物层和所述第二聚合物层对光的折射率不同。
3.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述容纳结构和图文结构呈沟槽形状。
4.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述微透镜结构的顶部与所述容纳结构的顶部之间的距离为2～150微米。
5.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间形成有分界面。
6.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述第一聚合物层和所述第二聚合物层的组成材料不同。
7.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率之差小于0.5。
8.根据权利要求2所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述微透镜结构在远离所述容纳结构的表面上形成有反射结构，所述反射结构用于对所述图文结构的成像进行反射。
9.根据权利要求8所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述反射结构的厚度为0.02～5微米。
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