[实用新型]微球沉积样品架装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种沉积样品架，具体的说是一种微球沉积样品架装置。

背景技术

大量微球沉积样品架装置主要使用GDP涂层系统内，该系统主要功能是通过射频激励方式产生等离子体，将气体有机源分解，重新生成新的物质，沉积在微球上，改变微球的性能。

传统样品盘设计都有自转功能，通过步进电机、磁流体、样品盘控制样品旋转，通过步进电机控制样品转速，转速控制在10-40转/分钟，微球放在样品盘内，随样品样品盘一起旋转，由于样品盘转动的惯性，样品自身也在样品盘内旋转，保证沉积均匀性；

现在市场上比较通途的设备时将微球放入样品盘中，将样品盘加一个选择功能，使微球样品在样品盘自由选择，该方案存在的问题将，有的微球样品镀的不完全，样品合格率很低，大约合格率能达到40％左右，做一次实验需要时间很长，这样一来大大增加了实验的时间成本和材料成本，经过对样品架系统进行改进后，大约合格率能达到85％以上。

目前样品架只有一个转动动作，很难保证每个样品都沉积上薄膜，而且有时候由于在沉积粘连的原因，整个实验样品全部报废，导致成本增加。

实用新型内容

针对现有技术中的微球沉积样品架装置难以保证每个样品都沉积上薄膜等不足，本实用新型要解决的技术问题是提供一种即能转动也能跳动的保证沉积均匀性的微球沉积样品架装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

本实用新型微球沉积样品架装置，具有由步进电机驱动旋转的样品盘，还具有压电陶瓷振动器，压电陶瓷振动器设于真空室中，安装于步进电机输出端的样品架上，样品盘固定在压电陶瓷振动器上。

本实用新型还具有水平敲击组件，设于样品架的侧边。

所述水平敲击组件包括电磁铁、弹性连接件及顶杆，其中电磁铁通过支架固定安装在真空室外部，电磁铁工作端面通过弹性连接件安装顶杆，顶杆由真空室外部穿置至真空室内，顶杆端部与样品架以敲击方式接触。

所述样品架侧边安装一挡块，顶杆端部与该挡块以敲击方式接触。

所述弹性连接件为压缩弹簧或波纹管。

本实用新型具有以下有益效果及优点：

1.本实用新型在样品盘上加频率控制和振动功能，这样保证样品不仅仅在转动而且还有跳动，保证沉积均匀性。

2.本实用新型增加了样品盘敲击功能，保证样品与样品之间处于粘连的样品分开。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

其中，1为射频激励线圈，2为气体元素分解区域，3为微球样品，4为样品盘，5为电刷，6为弹性连接件，7为电磁铁，8顶杆，9为压电陶瓷振动器，10为真空室，11为磁流体，12为步进电机。

具体实施方式

下面结合说明书附图对本发明作进一步阐述。

如图1所示，本实用新型微球沉积样品架装置，具有由步进电机12驱动旋转的样品盘4，还具有压电陶瓷振动器，压电陶瓷振动器9设于真空室10中，安装于步进电机12输出端的样品架上，样品盘4固定在压电陶瓷振动器9上；还具有水平敲击组件，设于样品架的侧边。

水平敲击组件包括电磁铁7、弹性连接件6及顶杆8，其中电磁铁7通过支架固定安装在真空室10外部，电磁铁7工作端面通过弹性连接件6安装顶杆8，顶杆8由真空室10外部穿置至真空室10内，顶杆8端部与样品架以敲击方式接触。

为了增加敲击力度及样果，在样品架侧边安装一挡块13，顶杆8端部与该挡块13以敲击方式接触。

本实施例中，样品盘4固定在压电陶瓷振动器9上，对压电陶瓷振动器9施加1000-2000Hz的频率后，压电陶瓷振动器9会产生一个大约是0.2mm的振幅，保证微球样品3在旋转的同时也发生震动，使微球样品3的外表面全部沉积成膜，由于受压电陶瓷特性的影响，振幅不能太大，一般在0.15～0.3mm之间；

由于成膜时间比较长，有时候会出现样品与样品之间粘连情况，所以在样品架上加设水平敲击组件，每30秒敲击一次，由电磁铁7、焊接波纹管以及顶杆8组成水平敲击组件，敲击位移幅度为2mm左右，保证样品与样品之间处于粘连的样品分开。

本实用新型的工作过程如下：