[实用新型]一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置有效
申请号: | 201520497959.0 | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN204779810U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 方攸同;何磊杰;梁斯庄;黄晓艳;马吉恩;张健;刘嘉斌;周晶 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04;B23K28/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 等离子体 磁场 推进 金属粉末 喷射 装置 | ||
1.一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:包括进料装置(1)、永磁体(2)、硅钢片(3)、保护套(4)和电极(5),进料装置(1)中装有经过研磨的精细金属粉末并充满有用于产生等离子体的气体;进料装置(1)的出口连接到由保护套(4)所包围的喷射通道,位于喷射通道的两侧均设有电极(5),两侧的电极(5)之间形成内部电场区域;永磁体(2)夹于上下硅钢片(3)之间,并包裹在保护套(4)外,形成外部磁场区域,电极(5)产生内部强电场,保护套位于由永磁体(2)和硅钢片(3)构成的外部磁场区域及电极(5)产生的内部电场区域之间。
2.根据权利要求1所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述永磁体(2)与两侧的电极(5)均在同一平面上,使得施加在电极上电流所产生的磁场方向与永磁体产生的磁场方向为顺磁方向。
3.根据权利要求1所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述上下硅钢片(3)的内侧面均设有突出的梯形凸条,保护套(4)定位在上下硅钢片(3)的梯形凸条之间。
4.根据权利要求1所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的精细金属粉末为经研磨后颗粒直径不大于0.1mm的金属粉末。
5.根据权利要求1所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的永磁体(2)采用钕铁硼或钐钴,用于产生喷射通道中的外部磁场。
6.根据权利要求1所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的电极(5)是石墨电极,用于激发气体电离产生等离子体。
7.根据权利要求6所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的用于产生等离子体的气体是还原性气体或者惰性气体。
8.根据权利要求7所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的惰性气体采用氦气。
9.根据权利要求7所述的一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置,其特征在于:所述的还原性气体采用氮气。
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