[实用新型]一种四晶单色器保护装置

权利要求书

1.一种四晶单色器保护装置，其特征在于，包括：

密封腔体，所述密封腔体为下部开口的箱型结构，所述密封腔体具有两对互相垂直的侧面，其中一对侧面中的一个上设置有可拆卸的工作窗，另一对侧面上设置有彼此对称的真空接口，所述密封腔体的上部设置有用于向密封腔体内注入氦气的快插接头；

底座，所述底座与所述密封腔体密封连接，所述底座上设置有用于将控制电缆引入密封腔体内的真空插头和用于排出密封腔体内的气体的减压阀；

支撑台，所述支撑台水平设置，所述底座固定于所述支撑台顶部；以及

用以使光路保持在真空环境下的三通真空管，所述三通真空管设置于所述密封腔体内部且可拆卸地固定于所述真空接口之间。

2.根据权利要求1所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述密封腔体还包括顶面、正面凸出部、第一侧面板、第二侧面板以及背面，其中，所述密封腔体的截面形成为凸字形结构，所述正面凸出部、第一侧面板、第二侧面板以及背面均沿竖向布置且与所述顶面垂直，所述第一侧面板和所述第二侧面板相互平行，所述背面垂直于所述第一侧面板。

3.根据权利要求2所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述正面凸出部包括正面板以及两个侧面板，所述正面板、两个侧面板均垂直于所述顶面且与所述顶面固定连接，所述正面板平行于所述背面板，两个侧面板互相平行且垂直于正面板，所述工作窗设置于所述正面板上，所述真空接口分别设置于所述两个侧面板上。

4.根据权利要求3所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述底座包括底板以及侧壁，所述底板呈凸字形且紧固于所述支撑台上，所述侧壁沿所述底板的周向设置且与所述底板垂直，所述底座与所述密封腔体之间通过所述侧壁形成密封连接。

5.根据权利要求4所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述侧壁的顶部形成有凸出壁，所述凸出壁的内侧与所述侧壁的内侧齐平，所述凸出壁的厚度小于所述侧壁的厚度，所述凸出壁与所述侧壁连接处形成平台。

6.根据权利要求5所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述凸出壁的顶部外侧设置有沿周向延伸且闭合的凹槽，所述密封腔体的底部设置有周向延伸闭合的凹沟，所述凹槽与所述凹沟内均设置密封圈，所述密封腔体和所述侧壁通过所述密封圈密封连接。

7.根据权利要求6所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述密封腔体的外侧还设置有沿周向分布的扣件钩，所述侧壁的外侧也设置有沿周向分布且与所述扣件钩一一对应的扣件架，所述扣件钩与扣件架配合紧固。

8.根据权利要求1所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述底座上设置有压强计。

9.根据权利要求1所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，所述支撑台为通过大理石切割而成的立方体。

10.根据权利要求1所述的四晶单色器保护装置，其特征在于，每个所述真空接口包括两个连接为一体的KF40型的法兰，其中一个法兰位于密封腔体的外侧，另外一个法兰位于密封腔体内侧；所述三通真空管的通过所述法兰与所述真空接口连接。