[实用新型]涂布机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种涂布机构。

背景技术

涂布工序在制膜中至关重要，直接影响膜的质量，而传统的涂布机构经常有涂布不均匀，涂布工具不易清洗，容易粘连等问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：基于上述问题，提供一种涂布机构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种涂布机构，包括控制上胶量厚度的调节刀和挡除多余胶的挡胶刀，调节刀和挡胶刀的下方设有支承辊。

进一步地，调节刀、挡胶刀与支承辊之间均留有空隙。

进一步地，调节刀上设有调节上胶量厚度的细牙螺纹。

本实用新型的有益效果是：上胶涂布均匀，清洗方便，结构简单。

附图说明

下面结合附图对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

其中：1.调节刀，2.挡胶刀，3.支承辊。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示的一种涂布机构，包括控制上胶量厚度的调节刀1和挡除多余胶的挡胶刀2，调节刀1和挡胶刀2的下方设有支承辊3。调节刀1、挡胶刀2与支承辊3之间均留有空隙，调节刀1上设有调节上胶量厚度的细牙螺纹。

膜覆盖于支承辊3表面，通过调节调节刀1上细牙螺纹来控制膜的上胶量厚度，然后通过挡胶刀2来挡除多余的胶，完成涂布过程。清洗时可向上打开调节刀1，方便清洗。

以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。