[实用新型]一种除氧器有效

专利信息
申请号: 201520518353.0 申请日: 2015-07-17
公开(公告)号: CN204981150U 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 张文武;张淦深;王开彬;夏雨;沈霞 申请(专利权)人: 杭州秀川科技有限公司
主分类号: C01B21/04 分类号: C01B21/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311121 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种气体滤除设备,具体地说,涉及一种除氧器。

背景技术

在厌氧菌的培养中,需要对培养皿周围的环境进行严格地去氧处理,常用的方法是将培养箱中的空气抽出而后再注入氮气,但是,由于氮气本身不够纯净,其中或多或少地含有一些氧气,这将会对厌氧菌的培养产生不利影响,因此,在充入氮气之前需要对氮气进行进一步地除氧处理,现有技术中,多是将混合有氧气的混合气体通过除氧器,除氧器中设有灼热的铜丝,混合气体中的氧气与铜发生氧化反应生成氧化铜(化学式2Cu+O2=<加热>2CuO),以此去除气体中的少量氧气,当铜丝表面全被氧化后,其除氧效果将大大下降,这时就需要向放置铜丝的除氧器中充入氢气,将氧化铜还原成铜(化学式:H2+CuO=<高温>=Cu+H2O),由上面的化学反应式可知,氧化反应会生成氧化铜(CuO),还原反应会生成水,氧化铜一般状态下呈粉末状,反应后附着在铜管表面,一小部分氧化铜粉末会随着气流流入到培养箱中,而还原反应生成的水分往往会凝结在除氧器的顶部或随着气流流向培养箱,为了有效控制厌氧菌培养箱内的清洁度与湿度,需要将除氧后的气体做进一步地除杂(主要为氧化铜粉末)和除水处理,此外,经过去氧处理后的气体,有上述的化学反应条件可知,其温度一般都较高,不能直接进入到培养箱中,而且为了更好地保护培养箱中的厌氧菌,避免其它细菌进入,应该对通入到培养箱中的气体做除菌处理。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种新型的除氧器,通过在除氧器的排气口后设置气旋分离室,进一步除去气体中的杂质与水汽,避免对培养箱造成污染。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

一种除氧器,包括壳体,壳体上设有进气口、排水口以及排气口,所述进气口处设有用以选通待除氧气体或氢气的进气三通阀,所述壳体内还设有铜网,所述铜网与壳体外部的电源相连,所述排气口通过气体导管依次连通有出气三通阀、除菌室、冷却室以及气旋分离室,所述气旋分离室的出气口连通有输送导管将冷却除氧除菌除水后的气体导入到培养箱中。

通过上述技术方案,当壳体内进行氧化反应时,旋转出气三通阀的手柄使得除氧后的气体进入到除菌室中,若壳体内进行的是还原反应,为了避免将氢气通入到培养箱中,可旋转出气三通阀的手柄使得含有氢气的混合气体导出到设备外部,有利的,可以将含有氢气的混合气体导入到储气罐中待下次还原反应使用;

通过设置除菌室,可以将气体中的细菌杀灭,通过设置冷却室,可以对温度较高的气体进行降温,使其满足培养箱的需要,其次,通过降低温度,也可以使得气体中的水分析出,有利于下一步气旋分离室的除水;

在气旋分离室中,水分与杂质在离心力的作用下被从气体中分离出来;

通过以上设置,可以进一步去除气体中所含有的杂质以及水分,降低气体的温度,避免杂质和水分对培养箱环境造成污染,也避免了培养箱中的湿度过大或细菌过多对厌氧菌的培养造成损害。

进一步的,所述除菌室包括腔体以及设置于腔体内部的铜管、电热丝,所述铜管的两端分别与气体导管相连通,所述电热丝缠绕于所述铜管表面且与除菌室外部的电源电连接。

通过设置除菌室内的铜管以及电热丝,可以通过高温将气体中的细菌杀灭,而后将气体通入到冷却室中对气体进行降温处理。

进一步的,所述冷却室包括冷却壳体,所述冷却壳体内设有冷却管,所述冷却管穿透冷却壳体并与外部的冷却机构相连通。

进一步的,所述气旋分离室的排水口处设有集水器。

通过上述技术方案,可以避免气旋分离室分离出的水分流出到设备外部给生产带来安全隐患。

进一步的,所述集水器内加入有可溶于水形成除菌盐溶液的溶质,

优选的,所述集水器内加入有氯化钠晶体。

通过在集水器中加入氯化钠晶体,可以使集水器中的水与氯化钠形成饱和溶液,抑制细菌的滋生,防止其它滋生的细菌随气旋分离室的气体流出进入到培养箱中。

有利的,所述壳体上设有观察窗,所述观察窗由透明材料制成。

通过上述技术方案,可以对壳体内的催还反应情况加以直观的了解,如及时了解壳体内铜管的状态以及壳体内的积水情况等,优选的,透明材料可以选用玻璃或者透明硬质塑料制成。

更加优选的,所述观察窗上设有与壳体内铜网颜色作比较的比色卡。

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