[实用新型]一种立式金相样件抛光机有效

专利信息
申请号: 201520520341.1 申请日: 2015-07-17
公开(公告)号: CN204789098U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 高静 申请(专利权)人: 成都市翻鑫家科技有限公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 徐丰
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 立式 金相 样件 抛光机
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及抛光技术领域,具体而言,涉及一种立式金相样件抛光机。

背景技术

金相抛光在金相组织观察中是比较重要的一步,要进行金相组织观察,前提是将金相样件处理平整,目前的处理手段主要有砂纸粗磨、细磨和抛光。抛光作为最后一步也决定了后续观察的质量,传统金相样件采取手持的方式固定,对于操作者的要求较高,不注意的情况下,金相样件很容易温度在抛光时过高,造成金相样件烧坏变质。并且操作者在抛光时往往不知道金相样件抛光到什么程度合适,很容易不小心对金相样件抛光过多,造成样件报废等缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种立式金相样件抛光机,以解决现有技术的不足。

为实现本实用新型目的,采用的技术方案为:

一种立式金相样件抛光机,包括电机、工作台、位于工作台上与电机输出轴连接的抛光盘,其特征在于,所述工作台的上方设有固定板,固定板与工作台之间设有支撑柱,固定板的板面设有通孔和安装架,固定板通过通孔配合连接有环形柱;所述固定板与抛光盘之间设有螺旋轴,螺旋轴的顶端伸出固定板,并与环形柱的内圆面螺纹配合,螺旋轴的底端设有压块,压块中心开设有方形盲孔,压块一侧设有横向贯穿压块的固定螺栓,其另一侧设有温度传感器;所述螺旋轴中部设有多个手柄;所述螺旋轴的顶端端面设有盲孔和与盲孔相配合的圆柱,圆柱外圆面设有刻度尺,且圆柱顶端伸出螺旋轴端面与安装架固定连接。

进一步地,所述螺旋轴下部设有导向架,导向架包括套环,套环内圆面与螺旋轴外圆面配合连接,套环外圆面设有多个连接柱,连接柱一端与套环外圆面连接,另一端与支撑柱固定连接。

进一步地,所述工作台面设有防护罩,防护罩位于抛光盘外侧。从而避免金相在抛光时火花伤到操作者。

本实用新型的有益效果是,金相样件在抛光盘抛光时,通过温度传感器感应金相样件的温度,当金相样件温度过高时,温度传感器发生报警,操作者可以通过控制螺旋轴减缓向下移动,从而控制金相样件的温度。并且旋转手柄使螺旋轴旋转向下移动,金相样件在抛光盘上进行抛光,通过圆柱上的刻度尺判断螺旋轴向下移动距离,从而有效地控制金相样件抛光程度,避免抛光过度而造成损失。

附图说明

图1是本实用新型提供的立式金相样件抛光机的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。

图1所示出了本实用新型提供的立式金相样件抛光机,包括工作台1、抛光盘2、压块3、螺旋轴4、手柄5、固定螺栓6、温度传感器7、支撑柱8、固定板9、安装架10、环形柱11、圆柱12、防护罩13、金相样件14、连接柱15、套环16及电机。所述抛光盘2位于工作台1上,且与电机输出轴连接;所述工作台1的上方设有固定板9,固定板9与工作台1之间设有支撑柱8,固定板9的板面设有通孔和安装架10,固定板9通过通孔配合连接有环形柱11;所述固定板9与抛光盘2之间设有螺旋轴4,螺旋轴4的顶端伸出固定板9,并与环形柱11的内圆面螺纹配合,螺旋轴4的底端设有压块3,压块3中心开设有方形盲孔,压块3一侧设有横向贯穿压块的固定螺栓6,其另一侧设有温度传感器7;所述螺旋轴4中部设有多个手柄5;所述螺旋轴4的顶端端面设有盲孔和与盲孔相配合的圆柱12,圆柱12外圆面设有刻度尺,且圆柱12顶端伸出螺旋轴4端面与安装架10固定连接。

螺旋轴4下部设有导向架,导向架包括套环16,套环16内圆面与螺旋轴4外圆面配合连接,套环16外圆面设有多个连接柱15,连接柱15一端与套环16外圆面连接,另一端与支撑柱8固定连接。通过套环实现对螺旋轴导向定位。工作台1面设有防护罩13,防护罩13位于抛光盘2外侧。从而避免金相样件14在抛光时火花伤到操作者。

金相样件14在抛光盘2抛光时,通过温度传感器7感应金相样件14的温度,当金相样件14温度过高时,温度传感器7发生报警,操作者可以通过控制螺旋轴4减缓向下移动,从而控制金相样件14的温度。并且旋转手柄5使螺旋轴4旋转向下移动,金相样件14在抛光盘2上进行抛光,通过圆柱12上的刻度尺判断螺旋轴4向下移动距离,从而有效地控制金相样件14抛光程度,避免抛光过度而造成损失。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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