[实用新型]数控机床有效
申请号: | 201520524577.2 | 申请日: | 2015-07-18 |
公开(公告)号: | CN204771721U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 陈健 | 申请(专利权)人: | 台州市陈氏铜业有限公司 |
主分类号: | B23Q3/06 | 分类号: | B23Q3/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 317511 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数控机床 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种机械加工设备领域,更具体地说,它涉及一种数控机床。
背景技术
数控机床在机械零件加工中运行最为广泛的一种加工设备,其中推压方式的夹持数控机床在锻件加工中运用较为普遍,其中推动器推动锻件,使锻件的脚部抵触在机床本体一侧,从而使锻件进行固定,在通过运行刀具固定座上的刀具进行切割,而当加工不同大小、型号的锻件时,当锻件抵触在机床本体一侧时导致锻件的中心位置改变了,从而人们要加工时需要调节刀具固定座的位置,导致人们操作变得麻烦。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种加工中心不产生变化的数控机床。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种数控机床,包括机床本体、工作台、刀具固定座、推动器,所述工作台、刀具固定座与推动器均固定连接在机床本体上,所述工作台上滑动连接有2个平行设置的滑动齿条,所述2个滑动齿条之间设有齿轮,所述齿轮分别与2个滑动齿条进行啮合,所述2个滑动齿条远离工作台侧面均设有抵触装置,所述推动器为其中一个滑动齿条提供移动动力。
优选的,所述抵触装置包括固定连接座、工件抵触头,所述固定连接座一体固定连接在滑动齿条上,所述工件抵触头可拆卸固定连接在固定连接座上。
优选的,所述工件抵触头通过螺栓固定连接在固定连接座上。
优选的,所述机床本体上设有供滑动齿条防尘的防尘箱。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:锻件放置在抵触装置上,推动器启动后推动其中一个滑动齿条,而当一个滑动齿条滑动后,带动齿轮进行旋转,而齿轮也与另一个滑动齿条啮合,从而通过齿轮也带动另一个滑动齿条进行滑动,从而使两端的抵触装置均向工作台中心移动,且运动速度也相同,有效的保证了运行时的稳定性,由于同时移动以及移动速度相同,从而当两端的抵触装置完全固定住锻件后,锻件中心能刚好位于工作台中心,且与锻件大小无关,从而有效的避免了刀具固定座进行频繁的调节,且在夹持的过程中2个抵触装置同时移动,从而有效的提高了夹持的效率。
附图说明
图1为本实用新型数控机床实施例的结构图;
图2为本实用新型数控机床实施例的剖视图。
附图标记:1、工作台;2、刀具固定座;3、推动器;4、滑动齿条;5、齿轮;6、固定连接座;7、工件抵触头;8、防尘箱。
具体实施方式
参照图1至图2对本实用新型数控机床实施例做进一步说明。
一种数控机床,包括机床本体、工作台1、刀具固定座2、推动器3,所述工作台1、刀具固定座2与推动器3均固定连接在机床本体上,所述工作台1上滑动连接有2个平行设置的滑动齿条4,所述2个滑动齿条4之间设有齿轮5,所述齿轮5分别与2个滑动齿条4进行啮合,所述2个滑动齿条4远离工作台1侧面均设有抵触装置,所述推动器3为其中一个滑动齿条4提供移动动力,锻件放置在抵触装置上,推动器3启动后推动其中一个滑动齿条4,而当一个滑动齿条4滑动后,带动齿轮5进行旋转,而齿轮5也与另一个滑动齿条4啮合,从而通过齿轮5也带动另一个滑动齿条4进行滑动,从而使两端的抵触装置均向工作台1中心移动,且运动速度也相同,有效的保证了运行时的稳定性,由于同时移动以及移动速度相同,从而当两端的抵触装置完全固定住锻件后,锻件中心能刚好位于工作台1中心,且与锻件大小无关,从而有效的避免了刀具固定座2进行频繁的调节,且在夹持的过程中2个抵触装置同时移动,从而有效的提高了夹持的效率。
所述抵触装置包括固定连接座6、工件抵触头7,所述固定连接座6一体固定连接在滑动齿条4上,所述工件抵触头7可拆卸固定连接在固定连接座6上,所述工件抵触头7通过螺栓固定连接在固定连接座6上,当工件抵触头7使用时间长后,产生了一些磨损,人们可以方便的拆卸下工件抵触头7进行更换,且当夹取不同的锻件时,人们也可以更换与锻件配合的工件抵触头7,从而使工作台1适应不同的锻件进行夹持。
所述机床本体上设有供滑动齿条4防尘的防尘箱8,防尘箱8有效的防止加工锻件时产生的碎屑掉落到齿轮5或者滑动齿条4上,从而有效的避免了碎屑对齿轮5转动以及齿条滑动产生影响。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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