[实用新型]一种螺旋水道砂芯结构有效
申请号: | 201520539158.6 | 申请日: | 2015-07-23 |
公开(公告)号: | CN204770593U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 杨安 | 申请(专利权)人: | 惠州市威盛工业有限公司 |
主分类号: | B22D18/04 | 分类号: | B22D18/04 |
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地址: | 516100 广东省惠州市博*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 螺旋 水道 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及铸造砂芯的技术领域,具体涉及一种螺旋水道砂芯结构。
背景技术
目前,传统的铝合金电机壳都是采用重力铸造工艺生产,采用重力铸造工艺时,由于保压较大,容易出现制品内部缩孔、缩松和铸造排气不畅,从而影响制品的力学性能,又由于其浇注系统较大,导致金属液的利用率较低。由于低压铸造工艺与重力铸造工艺相比具有诸多好处,现提倡采用低压铸造工艺对铝合金电机壳进行制造。
砂型铸造是以型砂为主要材料作为铸型,并依靠液态金属自身重量和流动性,在重力作用下填充铸型,进行铸件生产的工艺方法。砂型铸造是应用最广泛的一种铸造方法,其主要工序包括:制造模样,制备造型材料、造型、造芯、合型、熔炼、浇注、落砂、清理与检验等。钢、铁和大多数有色合金铸件都可用砂型铸造方法获得。由于砂型铸造所用的造型材料价廉易得,铸型制造简便,对铸件的单件生产、成批生产和大量生产均能适应,长期以来,一直是铸造生产中的基本工艺。
然而,现有的低压铸造的电机壳内没有设置散热水道,或者设置的散热水道散热效果不佳。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型公开的一种螺旋水道砂芯结构,通过两个相同的半圆弧结构砂芯反向拼接而成,利于规模化生产,增加了低压铸造的电机壳的散热效果。
本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是:
一种螺旋水道砂芯结构,所述砂芯结构包括两个相同的半圆弧结构砂芯,所述砂芯结构由左右两半圆弧结构砂芯反向拼接而成;所述半圆弧结构砂芯中部平行设有多条倾斜的半圆弧砂道,所述半圆弧结构砂芯设有左右两个竖向定位块,每条半圆弧砂道与竖向定位块之间设有横向连接部。
所述螺旋水道砂芯结构设有进水口砂形及出水口砂形。
所述半圆弧结构砂芯的其中一个竖向定位块上设有一拼接定位凸台。
所述拼接定位凸台为T字形,该拼接定位凸台横向向外突出于竖向定位块。左右两个两半圆弧结构砂芯反向拼接时,两个所述拼接定位凸台对齐,完成对左右两个两半圆弧结构砂芯的定位。
本实用新型的优点在于:本实用新型通过两个完全相同的半圆弧结构砂芯方向拼接形成一个完整的螺旋水道砂芯结构,半圆弧结构砂芯较整体的螺旋水道砂芯利于制造,拼接后每条半圆弧砂道能够对齐,形成完整的连通的螺旋水道砂芯结构;砂芯结构的两侧设有竖向定位块,在其中一侧的竖向定位块中部设置的拼接定位凸台能够方便地对两半圆弧结构砂芯对齐拼接。
下面结合附图与具体实施方式,对本实用新型进一步说明。
附图说明
图1为本实施例砂芯结构的结构示意图;
图2为本实施例砂芯结构的半圆弧结构砂芯结构示意图;
图3为本实施例半圆弧结构砂芯俯视结构示意图;
图4为本实施例砂芯结构与下模定位的结构示意图。
图中:3.砂芯结构,31.半圆弧结构砂芯,32.半圆弧砂道,33.竖向定位块,34.横向连接部,4.下模。
具体实施方式
实施例,参见图1~图4,本实施例提供的螺旋水道砂芯结构3,所述砂芯结构3包括两个相同的半圆弧结构砂芯31,所述砂芯结构3由左右两半圆弧结构砂芯31反向拼接而成;所述半圆弧结构砂芯31中部平行设有多条倾斜的半圆弧砂道32,所述半圆弧结构砂芯31设有左右两个竖向定位块33,每条半圆弧砂道32与竖向定位块33之间设有横向连接部34。本实施例通过两个完全相同的半圆弧结构砂芯31方向拼接形成一个完整的螺旋水道砂芯结构3,半圆弧结构砂芯31较整体的螺旋水道砂芯利于制造,拼接后每条半圆弧砂道32能够对齐,形成完整的连通的螺旋水道砂芯结构3;砂芯结构3的两侧设有竖向定位块33,在其中一侧的竖向定位块33中部设置的拼接定位凸台能够方便地对两半圆弧结构砂芯31对齐拼接。半圆弧结构砂芯31的左右两个竖向定位块33方便与压铸模的下模4定位。
所述螺旋水道砂芯结构设有进水口砂形及出水口砂形,该进水口砂形与出水口砂形在砂芯压铸成型并振砂后,形成压铸件的散热水路的进水口及出水口。
所述半圆弧结构砂芯31的其中一个竖向定位块33上设有一拼接定位凸台。所述拼接定位凸台为T字形,该拼接定位凸台横向向外突出于竖向定位块33。左右两个两半圆弧结构砂芯31反向拼接时,两个所述拼接定位凸台对齐,完成对左右两个两半圆弧结构砂芯31的定位。
本实用新型并不限于上述实施方式,采用与本实用新型上述实施例相同或近似结构,而得到的其他用于螺旋水道砂芯结构,均在本实用新型的保护范围之内。
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