[实用新型]一种单X射线源血液辐照装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及血液辐照仪技术领域，尤其涉及一种单X射线源血液辐照装置。

背景技术

输血相关性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺损或免疫抑制的患者不能清除输入血液中具有免疫活性的淋巴细胞，使其在体内植活、增殖，将患者的组织器官识别为非己物质，并作为靶目标进行免疫攻击、破坏的一种致命性输血并发症。TA-GVHD临床表现缺乏特异性，极易漏诊和误诊。

有研究表明引起TA-GVHD的受体输入淋巴细胞数量应大于10⁷/kg，如若低于10⁵/kg则不会引起TA-GVHD。但有报道对免疫缺陷的儿童仅10⁴/kg淋巴细胞即引发TA-GVHD。总之输入供体的淋巴细胞数量越多其病情越严重,死亡率也就越高。

目前认为输血前对血液或血液制品进行照射，是预防TA-GVHD惟一有效的方法。其机制是：淋巴细胞对射线敏感，通过适当剂量的射线照射，可使免疫活性淋巴细胞灭活，丧失增殖能力。而对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性影响不大。现在发达国家应用率已达30％～40％。

血液辐照仪就是一种使用射线照射血液或血液制品，对淋巴细胞进行灭活，预防输血活动中TA-GVHD疾病的医疗设备。

从射线源分，血液辐照仪可以分为两类，一类是采用放射源(主要是Cs-137、Co-60)产生的γ射线照射血液或血液制品，一类是采用X光管产生的X射线照射血液或血液制品。放射源型血液辐照仪设备需要装配几百到上千居里的同位素放射源，这存在着潜在的核泄漏风险。而X光源型血液辐照仪则没有核泄漏的风险，设备断电就没有任何射线产生。

不过，X光源型血液辐照仪存在X射线能量低、单源辐照不均匀的缺点，不能满足血液辐照仪标准中对辐射均匀性的要求(国标要求血液辐照仪辐照的非均匀性<20％)。普通X光源产生的X光子能量一般在200keV以下，它在照射血液或血液制品过程中，很容易被浅层的血液大量吸收，使得到达深处的X光子数量迅速减少。

为了克服现有单源辐照X光源型血液辐照仪的缺点，中国发明专利公开号为：CN104324425A，实用新型名称为：《一种血液辐照仪》的专利文件中公开了一种血液辐照仪，该方案利用腔体在转盘旋转中的位置移动，实现了血袋的上下表面被交替照射。如图1所述，比如在A的位置，X射线是从血袋下方入射，转到C的位置，就变成了从血袋上方入射。这样，提高了血袋中血液或血液制品的辐照均匀性，但是辐照时间却被迫成倍延长，使用并不方便。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种单X射线源血液辐照装置，包括：

机架，以及设置于机架上的X射线管，所述X射线管的下方设有血袋容置器，所述血袋容置器由底板，以及设置在底板上的外壁和内壁组成，所述外壁和内壁之间围成环形的血袋容置腔，所述血袋容置腔用于放置待辐照的血袋，所述血袋中盛有血液或血液或血液制品，所述血袋容置器的底板通过旋转轴活动设置于机架上，所述旋转轴通过传动件与旋转电机的输出轴相连接。

进一步，所述外壁和内壁相平行，且其均与底板相倾斜。

进一步，所述外壁与内壁之间的距离与血袋厚度相匹配。

进一步，所述血袋容置器为圆台型或棱台型。

进一步，所述血袋容置器的内壁由可透X射线的材料组成。

进一步，所述机架上设有剂量监测装置，所述剂量监测装置设置于所述血袋容置器的下方，用于检测血袋的辐照剂量。

进一步，所述机架上还设有高压电源，所述高压电源用于为X射线管进行供电；且该高压电源和X射线管上均设有散热装置。

本实用新型让血袋环绕着X射线管，充分利用X射线管所产生的X射线，提高利用效率；且采用旋转电机让血袋承载容器来回旋转，迫使血袋内的血液或血液制品发生流动，使得各局部区域的血液或血液制品发生位置交换，从而提高血液或血液制品辐照的均匀性。

附图说明

图1为现有技术中的其工作原理示意图；

图2为本实用新型血液辐照装置中整体结构示意图；

图3为本实用新型血液辐照装置中血袋容置器的一种结构的示意图；

图4为本实用新型血液辐照装置中血袋容置器的另一种结构的示意图；

图5为本实用新型血液辐照装置中血袋容置器与血袋位置关系的示意图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步详细的说明。