[实用新型]一种新型炭砂滤池有效
申请号: | 201520545290.8 | 申请日: | 2015-07-26 |
公开(公告)号: | CN204981314U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 张永军;范端文;岳仁峰;刘旭东;高雷;伊勇;李显锋;史军军;仇立发;于娇娇;张长林;朗赞锋;于洋;李同举;信博岩;吴传锋 | 申请(专利权)人: | 北京市政建设集团有限责任公司;北京市市政工程设计研究总院 |
主分类号: | C02F3/02 | 分类号: | C02F3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100041 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 滤池 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种饮用水处理设备,具体涉及一种新型炭砂滤池,属于水处理设备技术领域。
【背景技术】
氨氮是我国地表水体的主要污染物之一,而我国绝大多数自来水厂采用的“混凝-沉淀-过滤-消毒”常规工艺对氨氮的去除作用非常有限,因此出厂水较难达到《生活饮用水卫生标准》(GB5749-2006)对于氨氮出水小于0.5mg/L的要求。
而在常规工艺的基础上增加活性炭生物处理工艺,通过丰富的生物量和较为充足的氧气,可以实现对氨氮的高效去除,提高出厂水水质。因为,活性炭表面结构粗糙,容纳的微生物量多,是较好的微生物载体。但是目前对于我国大多数自来水厂而言,缺少相应的设施。
因此,为解决上述技术问题,确有必要提供一种新型炭砂滤池,以克服现有技术中的所述缺陷。
【实用新型内容】
为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种结构简单,氨氮去除效果好,去除速度快,且处理成本低的新型炭砂滤池。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种新型炭砂滤池,其包括左池体、右池体、进水渠、滤板、承托板、石英砂层、活性炭层、出水渠以及屋面;其中,所述左池体和右池体并排设置,并相连通;所述左池体和右池体的内壁设有防腐层;所述左池体和右池体内的上部设有若干配水槽;所述配水槽和进水渠连接而将水排入左池体和右池体;所述滤板、承托板、石英砂层、活性炭层自左池体的底部自下而上依次设置;所述右池体内设有曝气孔;所述出水渠围设在左池体和右池体的外侧,其和左池体、右池体之间设有一出水闸板;所述屋面通过若干框架柱架设在左池体和右池体的顶部。
本实用新型的新型炭砂滤池进一步设置为:所述左池体和右池体之间设有设备室,于设备室的上方设有起重机和采光天窗。
本实用新型的新型炭砂滤池进一步设置为:所述屋面由钢网架和镀铝锌屋面板组成。
本实用新型的新型炭砂滤池进一步设置为:所述右池体内设有一导流板,该导流板的斜度为3%。
本实用新型的新型炭砂滤池还设置为:所述防腐层为二布三脂玻璃钢防腐层。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:本实用新型的新型炭砂滤池具有结构简单,氨氮去除效果好,去除速度快,且处理成本低等诸多优点,由于活性炭表面结构粗糙,容纳的微生物量多,通过丰富的生物量和较为充足的氧气,可以实现对氨氮的高效去除,提高出厂水水质。
【附图说明】
图1是本实用新型的新型炭砂滤池的结构示意图。
【具体实施方式】
请参阅说明书附图1所示,本实用新型为一种新型炭砂滤池,其由左池体1、右池体2、进水渠3、滤板4、承托板5、石英砂层6、活性炭层7、出水渠8以及屋面9等几部分组成。
其中,所述左池体1和右池体2并排设置,并相连通。所述左池体1和右池体2的内壁设有防腐层100;所述防腐层100具体为二布三脂玻璃钢防腐层100,从而使该炭砂滤池的耐腐蚀性好。
所述左池体1和右池体2内的上部设有若干配水槽10;所述配水槽10和进水渠3连接而将水排入左池体1和右池体2。
所述滤板4、承托板5、石英砂层6、活性炭层7自左池体1的底部自下而上依次设置。由于活性炭7表面结构粗糙,容纳的微生物量多,通过丰富的生物量,可以实现对氨氮的高效去除,提高出厂水水质。
所述右池体2内设有曝气孔11,其能为水提供充足的氧气。所述右池体2内还设有一导流板13,该导流板13的斜度为3%。
所述出水渠8围设在左池体1和右池体2的外侧,其和左池体1、右池体2之间设有一出水闸板12,通过出水闸板12来控制出水。
所述屋面9通过若干框架柱架14设在左池体1和右池体2的顶部,其由钢网架91和镀铝锌屋面板92组成。
进一步的的,所述左池体1和右池体2之间设有设备室15,于设备室15的上方设有起重机16和采光天窗17。所述设备室15内安装各种设备,并能对左池体1和右池体2的运行情况进行观察;所述起重机16可以方便吊运各类设备和组件;所述采光天窗17能够提供充足的光照,利于工作人员操作。
以上的具体实施方式仅为本创作的较佳实施例,并不用以限制本创作,凡在本创作的精神及原则之内所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本创作的保护范围之内。
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