[实用新型]一种女士皮靴有效
申请号: | 201520557518.5 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN204969694U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 屠国民 | 申请(专利权)人: | 桐乡辰阳鞋业有限公司 |
主分类号: | A43B3/02 | 分类号: | A43B3/02;A43B13/12;A43B13/22;A43B23/00;A43B23/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 314000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 女士 皮靴 | ||
技术领域
本实用新型涉及皮靴技术领域,特别是涉及一种女士皮靴。
背景技术
皮靴是帮子略呈筒状高到踝子骨以上,用皮做的鞋。皮靴是爱美女士家中必备的鞋款之一,这是因为皮靴具有设计上精致优美,外观上美观大方,穿着上高帮显腿瘦等优点。而现有的皮靴多为秋冬款,针对炎炎夏日的皮靴比较少,造型种类也相对较少,透气性好,穿着舒适,体现高挑身材的皮靴更少,同时皮靴的生产成本较高,如何在不破坏皮靴的优点的条件下降低生产成本也是皮靴生产企业面临的问题之一。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对上述的技术现状而提供一种设计优美,生产成本低,透气性好,穿着舒适,鞋帮可伸缩的女士皮靴。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:
一种女士皮靴,包括靴底和靴帮,所述靴底从上到下由上层、中层、下层三层结构组成,所述上层由黑色橡胶制成,所述上层上底面表面光滑,从靴跟部到靴头部成一定坡度,所述上层下底面靴跟部设置有一个向下的凸起,所述中层由白色橡胶制成,所述中层上底面靴跟部设置有一个内凹,所述中层下底面为一个平面,所述下层为耐磨层,所述靴帮由设置在靴底左右两侧的两块皮革组成,包括包头,后围和靴筒,所述后围与靴筒后端相连,断裂处设置有拉链结构,所述包头与靴筒相连,断裂处设置有四个向内凹陷的锥形内凹,将皮革分隔出五个突部,所述突部处设置有穿绳结构,靴绳通过穿绳结构将断裂处连接,所述包头前端为镂空结构,所述后围与靴跟部相连的左右两侧设置有半圆弧形镂空,所述靴筒两侧设置有锥形镂空。
作为本实用新型上述女士皮靴的改进,所述上层下底面的凸起与中层上底面的内凹相对应。
作为本实用新型上述女士皮靴的进一步改进,所述靴底上层设置有内置鞋垫。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:所述靴底上、中、下三层结构,采用不同的材质,增强了皮靴的稳定性,增加了靴底的高度,同时下层为耐磨层,提高了耐磨性;所述靴绳结构能根据腿的粗细及穿着的舒适度改变靴筒及包头的大小,增强了适应性,同时也起到美观的作用;所述包头前端的镂空结构,后围处的半圆弧形镂空结构和鞋帮厨的锥形镂空,增强了皮靴的透气性和美观性;所述靴底的内置鞋垫,能增强穿着的舒适感;所述女士皮靴具有设计优美,生产成本低,透气性好,穿着舒适,鞋帮可伸缩的特点。
附图说明
图1为本实用新型实施例中女士皮靴的侧边结构示意图;
图2为本实用新型实施例中女士皮靴的正面结构意图。
附图标记:
1、靴底;11、上层;12、中层;13、下层;14、凸起;15、内凹;16、内置鞋垫;2、靴帮;21、包头;22、后围;23、靴筒;24、拉链结构;25、锥形内凹;26、突部;27、穿绳结构;28、靴绳;3、镂空结构;4、半圆弧形镂空;5、锥形镂空。
具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进一步的详细描述。
如图1-图2所示,本实施例为一种女士皮靴,是一种设计优美,生产成本低,透气性好,穿着舒适,鞋帮可伸缩的女士皮靴,该女士皮靴包括靴底1和靴帮2,所述靴底1从上到下由上层11、中层12、下层13三层结构组成,所述上层11由黑色橡胶制成,所述上层11上底面表面光滑,从靴跟部到靴头部成一定坡度,所述上层11下底面靴跟部设置有一个向下的凸起14,所述中层12由白色橡胶制成,所述中层12上底面靴跟部设置有一个内凹15,所述中层12下底面为一个平面,所述下层13为耐磨层,所述靴底上层11设置有内置鞋垫16,所述靴帮2由设置在靴底1左右两侧的两块皮革组成,包括包头21,后围22和靴筒23,所述后围22与靴筒23后端相连,断裂处设置有拉链结构24,所述包头21与靴筒23相连,断裂处设置有四个向内凹陷的锥形内凹25,将皮革分隔出五个突部26,所述突部26处设置有穿绳结构27,靴绳28通过穿绳结构27将断裂处连接,所述包头21前端为镂空结构3,所述后围22与靴底1跟部相连的左右两侧设置有半圆弧形镂空4,所述靴筒23两侧设置有锥形镂空5。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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