[实用新型]一种RENA制绒槽进液装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种RENA制绒槽进液装置。

背景技术

硅片在切割过程中会在表面形成大约10μm厚的损伤层，这一层与硅片基体的性质不同，会严重影响太阳能电池的性能。清洗工序制绒工艺就是利用硅片的这一层损伤层，通过硝酸对其氧化制绒，形成高低不平的表面，大大增加电池片表面的受光面积，减少反射，从而提高太阳能电池的转换效率。在多晶制绒时，需要控制硅片的减薄量，尤其是需要控制硅片整面膜的减薄均匀性。

目前RENA制绒机台存在设计上的缺陷，制绒槽的进液方式存在缺陷，由于制绒槽很长，进液集中在整个槽体的一端，导致药液很难快速均匀混合，这样制绒槽内不同位置的药液在温度、浓度方面就会有很大的差异，导致制绒机台道与道之间腐蚀程度存在差异，最终导致每道之间减重差异较大，且液体循环均匀性较差，得到的绒面均匀性、稳定性差，进而导致镀膜岗位的返工片和色差片等不良片的比率大大增加。

实用新型内容

本实用新型需要解决的上述问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种RENA制绒槽进液装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种RENA制绒槽进液装置，在制绒槽底部设有顺流分流管组和逆流分流管组，顺流分流管组包括至少两根顺流分流管，逆流分流管组包括至少两根逆流分流管，顺流分流管内液体的流向与硅片传动的方向一致，逆流分流管内液体的流向与硅片传动的方向相反，顺流分流管和逆流分流管均沿其长度方向上分布有斜向其流向方向的出液口，制绒槽长度方向的两端分别设有溢流孔，位于顺流分流管组流向前方的溢流孔与逆向溢液收集箱相连，位于逆流分流管组流向前方的溢流孔与顺向溢液收集箱相连，逆向溢液收集箱通过循环泵和逆向分配管将其内液体泵入逆流分流管组，顺向溢液收集箱通过循环泵和顺向分配管将其内液体泵入顺流分流管组。

顺流分流管与逆流分流管相间设置。

顺向溢液收集箱和逆向溢液收集箱之间通过两根连接管相连，其中一根连接管上设有循环泵。

顺流分流管和逆流分流管均至少包括两列出液口。

顺流分流管组和逆流分流管组分别通过固定件固定于制绒槽的底部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

在制绒槽中设顺流分流管组和逆流分流管组，用于分流，改变了药液进入制绒槽内的方式，使药液能够快速均匀的充满槽体的各个角落，而且顺流分流管组和逆流分流管组中的流向不同，使得制绒槽中的药液形成一个循环流，使制绒槽内各处药液的浓度、温度保持一致，减少制绒后硅片减重上的差异，提高了均匀性。

附图说明

图1是本实用新型的RENA制绒槽进液装置的结构示意图。

其中，1、制绒槽，2、顺流分流管，3、逆流分流管，4、溢流孔，5、逆向溢液收集箱，6、顺向溢液收集箱，7、逆向分配管，8、顺向分配管。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示，一种RENA制绒槽进液装置，在制绒槽1底部设有顺流分流管组和逆流分流管组，顺流分流管组包括至少两根顺流分流管2，逆流分流管组包括至少两根逆流分流管3，顺流分流管2内液体的流向与硅片传动的方向一致，逆流分流管3内液体的流向与硅片传动的方向相反，顺流分流管2和逆流分流管3均沿其长度方向上分布有斜向其流向方向的出液口，制绒槽1长度方向的两端分别设有溢流孔4，位于顺流分流管组流向前方的溢流孔4与逆向溢液收集箱5相连，位于逆流分流管组流向前方的溢流孔4与顺向溢液收集箱6相连，逆向溢液收集箱5通过循环泵和逆向分配管7将其内液体泵入逆流分流管组，顺向溢液收集箱6通过循环泵和顺向分配管8将其内液体泵入顺流分流管组。

顺流分流管2与逆流分流管3相间设置，形成多个小的液体循环流，使药液混合的更加均匀。

顺向溢液收集箱6和逆向溢液收集箱5之间通过两根连接管相连，其中一根连接管上设有循环泵。

顺流分流管2和逆流分流管3均至少包括两列出液口。

顺流分流管组和逆流分流管组分别通过固定件固定于制绒槽1的底部。

在制绒槽中设顺流分流管组和逆流分流管组，用于分流，改变了药液进入制绒槽内的方式，使药液能够快速均匀的充满槽体的各个角落，而且顺流分流管组和逆流分流管组中的流向不同，使得制绒槽中的药液形成一个循环流，使制绒槽内各处药液的浓度、温度保持一致，减少制绒后硅片减重上的差异，提高了均匀性。

以上对本实用新型的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本实用新型并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本实用新型的实质内容。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。