[实用新型]一种触控膜生产用的激光刻蚀系统有效

专利信息
申请号: 201520574768.X 申请日: 2015-07-31
公开(公告)号: CN204913061U 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 刘彩风;潘中海;司荣美 申请(专利权)人: 天津宝兴威科技有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/064;B23K26/03
代理公司: 天津市新天方有限责任专利代理事务所 12104 代理人: 张强
地址: 301899 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 触控膜 生产 激光 刻蚀 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及激光加工领域,尤其涉及一种触控膜生产用的激光刻蚀系统。

背景技术

目前,触控膜在各行各业的应用越来越广泛,手机、平板电脑、游戏机等形状各异的产品对触控膜刻蚀技术提出了更高的要求。传统的化学刻蚀方法已经不能满足加工精度的要求。

发明内容

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种触控膜生产用的激光刻蚀系统。

本实用新型所采取的技术方案:

一种触控膜生产用的激光刻蚀系统包括计算机控制器、激光发射器、振镜、CCD定位系统、F-Θ透镜组、吸附平台。所述计算机控制器的输出端分别连接激光发射器的输入端和CCD定位系统的输入端,所述激光发射器的输出端连接振镜的输入端,所述振镜的输出端连接F-Θ透镜组的输入端,所述F-Θ透镜组的输出端连接吸附平台的输入端,所述CCD定位系统的输出端连接吸附平台的输入端。

本实用新型的有益效果:本实用新型采用一种触控膜生产用的激光刻蚀系统,通过由计算机控制器控制激光发射器发出激光信号,激光信号经振镜使光束发生偏转,再经F-Θ透镜组的聚焦形成焦点轨迹,同时由计算机控制器控制CCD定位系统,使其贴合焦点轨迹,当CCD定位系统和焦点轨迹重合时确定为本次刻蚀的定位轨迹,之后将触控膜置于吸附平台上,进行激光刻蚀。这样使触控膜的刻蚀更加精准。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

实施例1一种触控膜生产用的激光刻蚀系统。

如图1所示,一种触控膜生产用的激光刻蚀系统包括计算机控制器、激光发射器、振镜、CCD定位系统、F-Θ透镜组、吸附平台。所述计算机控制器的输出端分别连接激光发射器的输入端和CCD定位系统的输入端,所述激光发射器的输出端连接振镜的输入端,所述振镜的输出端连接F-Θ透镜组的输入端,所述F-Θ透镜组的输出端连接吸附平台的输入端,所述CCD定位系统的输出端连接吸附平台的输入端。

使用时,由计算机控制器控制激光发射器发出激光信号,激光信号经振镜使光束发生偏转,再经F-Θ透镜组的聚焦形成焦点轨迹,同时由计算机控制器控制CCD定位系统,使其贴合焦点轨迹,当CCD定位系统和焦点轨迹重合时确定为本次刻蚀的定位轨迹,之后将触控膜置于吸附平台上,进行激光刻蚀。

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