[实用新型]太阳能电池硅片清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种太阳能电池硅片清洗装置。

背景技术

随着科学技术的发展，硅片的应用越来越广，在各种领域中都得到了应用。

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

硅片清洗时需要用到清洗装置，但是一般的清洗装置清洗效果比较差，而且硅片清洗后还要取出进行甩干，操作起来比较麻烦。

实用新型内容

本实用新型发明的目的是提供一种太阳能电池硅片清洗装置，该太阳能电池硅片清洗装置解决了清洗装置清洗效果不好和清洗后甩干操作不方便的问题。

为了实现上述发明目的，本实用新型的太阳能电池硅片清洗装置包括支架、清洗槽、表面开有孔洞的转筒，清洗槽设置在支架上，清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，所述转筒内设有若干层隔网，所述清洗槽内设有温度传感器、加热装置、超声波发生器，清洗槽外侧设有控制器，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，所述清洗槽外壁下端设有出水管，出水管与排水管连接，出水管与排水管之间设有给水管，给水管的出水端延伸至清洗槽上方，所述出水管上设有第一阀门，排水管上设有第二阀门，给水管上设有水泵。

所述加热装置为加热管。

所述电机为防震电机。

所述隔网与转筒内壁卡槽连接。

所述第一阀门、第二阀门均为电磁阀。

采用这种太阳能电池硅片清洗装置，具有以下优点：

1、由于清洗槽内设有转筒，清洗槽下方设有电机，电机输出端连接转轴，转轴延伸至清洗槽内，转轴与转筒连接，这样在硅片清洗时，可以提高清洗效果，而且清洗完后，可以利用转筒进行甩干，操作起来非常方便；

2、由于清洗槽内设有温度传感器、加热装置，温度传感器、加热装置分别与控制器连接，当清洗槽内的清洗液温度高于或低于设定值范围时，由控制器控制加热装置是否工作，这样就能保证清洗液始终保持在最适宜的清洗温度，提高了清洗效果；而且使用了超声波发生器，进一步提高了清洗效果；

3、由于清洗槽外壁下端设有出水管，出水管与排水管连接，出水管与排水管之间设有给水管，这样可以使清洗液进行循环流动，进一步提高了清洗效果。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型太阳能电池硅片清洗装置的结构示意图。

其中有：1.支架；2.清洗槽；3.转筒；4.电机；5.转轴；6.隔网；7.超声波发生器；8.温度传感器；9.加热装置；10.控制器；11.出水管；12.排水管；13.给水管；14.第一阀门；15.水泵；16.第二阀门。

具体实施方式

图1所示太阳能电池硅片清洗装置，包括支架1、清洗槽2、表面开有孔洞的转筒3，清洗槽2设置在支架1上，清洗槽2内设有转筒3，清洗槽2下方设有电机4，电机4输出端连接转轴5，转轴5延伸至清洗槽2内，转轴5与转筒3连接，所述转筒3内设有若干层隔网6，所述清洗槽2内设有温度传感器8、加热装置9、超声波发生器7，清洗槽2外侧设有控制器10，温度传感器8、加热装置9分别与控制器10连接，所述清洗槽2外壁下端设有出水管11，出水管11与排水管12连接，出水管11与排水管12之间设有给水管13，给水管13的出水端延伸至清洗槽2上方，所述出水管11上设有第一阀门14，排水管12上设有第二阀门16，给水管13上设有水泵15。

所述加热装置9为加热管。

所述电机4为防震电机。

所述隔网6与转筒3内壁卡槽连接。

所述第一阀门14、第二阀门16均为电磁阀。