[实用新型]真空溅射设备及用其制备得到的复合铝箔

权利要求书

1.一种真空溅射设备，其特征在于：包括真空溅射室以及设于所述真空溅射室内的阴极板、铝箔放卷辊、铝箔收卷辊、铝箔传动辊，所述真空溅射室底部室壁上设有抽真空口和氩气入口，所述阴极板设于真空溅射室内上方，所述阴极板上附有石墨烯块料，所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊设于所述阴极板下方两侧，分别完成铝箔的放卷和收卷，所述铝箔传动辊设于所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊之间，用于使铝箔在阴极板下方水平传动，便于石墨烯块料镀于铝箔上。

2.根据权利要求1所述的真空溅射设备，其特征在于：所述铝箔传动辊有四个。

3.根据权利要求1所述的真空溅射设备，其特征在于：所述石墨烯块料为品质疏松的石墨烯块料。

4.一种用权利要求1～3任一项所述的真空溅射设备制备得到的复合铝箔，其特征在于：包括铝箔本体，所述铝箔本体的表面镀有石墨烯层。

5.根据权利要求4所述的复合铝箔，其特征在于：镀成的所述石墨烯层的厚度为1-2微米。

6.根据权利要求4所述的复合铝箔，其特征在于：所述石墨烯块料为品质疏松的石墨烯块料。