[实用新型]一种可提高电镀层表面质量的电镀槽有效

专利信息
申请号: 201520592624.7 申请日: 2015-08-07
公开(公告)号: CN204874794U 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 高帮树;彭光恒 申请(专利权)人: 湖北和昌新材料科技股份有限公司
主分类号: C25D17/02 分类号: C25D17/02;C25D21/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 437000 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 镀层 表面 质量 电镀
【权利要求书】:

1.一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其包括槽体和转动式装设在该槽体内部的搅拌装置,所述的槽体包括内槽体、外槽体和由所述的内槽体与外槽体间隔设置而形成的容置槽,其特征在于:所述的容搅拌装置包括呈中空状的转轴、间隔装设在该转轴上的若干搅拌杆,所述的搅拌杆呈中空状并与所述转轴的内部相连通,且所述的搅拌杆表面设有出气孔,所述的出气孔上装有一单向压力控制阀,所述的容置槽内装有一出气管,所述的出气管一端连接至一保护气体发生器,其另一端与所述转轴的中部相连通。

2.如权利要求1所述的一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其特征在于:所述的转轴两端分别通过一带座轴承座转动式装设在所述的槽体上。

3.如权利要求2所述的一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其特征在于:所述的电镀槽还包括一驱动装置,所述转轴的一端通过所述的出气管与所述的搅拌杆相连通,其另一端与所述的驱动装置相连接。

4.如权利要求2所述的一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其特征在于:所述的搅拌杆呈扁平的椭圆状,所述的搅拌杆与所述的转轴之间的夹角呈38°-42°。

5.如权利要求1所述的一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其特征在于:所述的内槽体底部设有若个高压喷嘴,所述的容置槽内还设有一喷射管道,所述的高压喷嘴与所述的喷射管道相连通;所述的高压喷嘴与所述的搅拌杆交错设置,且所述的高压喷嘴与所述的搅拌杆呈垂直状设置。

6.如权利要求5所述的一种可提高电镀层表面质量的电镀槽,其特征在于:所述的喷射管道一端与所述的高压喷嘴相连通,其另一端与所述的槽体内部相连通,且所述的喷射管道上设有一流量控制阀。

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