[实用新型]静触头盒散热结构有效

专利信息
申请号: 201520594881.4 申请日: 2015-08-07
公开(公告)号: CN204927888U 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 韩鹏凯;E.皮隆;刘淼 申请(专利权)人: 施耐德电器工业公司
主分类号: H02B1/56 分类号: H02B1/56;H02B1/14;H02B11/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 葛飞
地址: 法国吕埃*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 静触头盒 散热 结构
【权利要求书】:

1.一种用于高压开关柜的静触头盒散热结构,其特征在于,该静触头盒散热结构包括静触头盒、连接螺栓、分支母排、金属镶嵌件、由所述静触头盒的内部空腔容纳的静触头以及散热装置,其中所述连接螺栓依次将所述静触头、所述分支母排、所述金属镶嵌件连接起来并且最终与位于所述静触头盒的外部的所述散热装置连接。

2.根据权利要求1所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述散热装置包括多个散热片、均压半球、固定螺纹孔、基座、安装凸台以及定位凸台;

所述多个散热片从所述基座朝向远离所述静触头盒的方向延伸且彼此之间间隔开来,所述多个散热片与所述均压半球的顶部平面相交;

所述安装凸台从所述基座朝向所述静触头盒的方向突出;

所述定位凸台从所述安装凸台朝向所述静触头盒的方向突出;

所述安装凸台设置有所述固定螺纹孔。

3.根据权利要求2所述的静触头盒散热结构,其特征在于,除了所述安装凸台、所述定位凸台以及所述固定螺纹孔的表面以外,环氧涂层涂覆在所述多个散热片、所述均压半球以及所述基座的表面上。

4.根据权利要求3所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述环氧涂层的厚度介于2mm至3mm之间。

5.根据权利要求2所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述安装凸台的高度为5mm;所述定位凸台的高度为2.5mm。

6.根据权利要求2所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述金属镶嵌件的一部分嵌入所述静触头盒的端壁中,所述金属镶嵌件的外部圆周表面上具有环形的防松特征,该防松特征与所述端壁的端壁安装孔的内表面配合。

7.根据权利要求6所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述金属镶嵌件具有贯穿其中的金属镶嵌件通孔,在所述金属镶嵌件的呈圆柱形的一个端部的外圆周表面上设置有定位凹槽,该定位凹槽与所述散热装置的所述定位凸台配合。

8.根据权利要求7所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述金属镶嵌件的所述一个端部的端部侧表面与所述安装凸台的凸台顶部表面接触,所述端部侧表面突出超过所述静触头盒的所述端壁的端壁外表面;并且呈圆柱形的所述一个端部的外圆周表面的直径小于所述安装凸台的直径。

9.根据权利要求6所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述静触头具有静触头通孔,所述分支母排的一个端部具有分支母排通孔,所述连接螺栓依次穿过所述静触头通孔、所述分支母排通孔、所述金属镶嵌件通孔以及所述固定螺纹孔。

10.根据权利要求8所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述端部侧表面突出超过所述静触头盒的所述端壁的端壁外表面5mm。

11.根据权利要求1所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述散热装置由金属材料制成。

12.根据权利要求7所述的静触头盒散热结构,其特征在于,所述定位凹槽的深度为3mm。

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