[实用新型]超声雾化热解喷涂反应室的独立式多源机构

说明书

技术领域

本实用新型属于超声雾化热解喷涂领域，具体地说，尤其涉及一种超声雾化热解喷涂反应室的独立式多源机构。

背景技术

超声雾化热解喷涂(USP)是一种常见的薄膜材料制备工艺，在科研和生产中有广泛的用途，这种方法擅长氧化物、硫化物、氯化物等化合物薄膜的制备。合理的工艺参数下，USP薄膜的质量可以与溅射法、CVD方法制备的薄膜材料相当，但成本却大幅度降低。

掺杂薄膜和多层薄膜是薄膜材料研究和生产中非常常见的情况，传统的usp方法在掺杂和多层膜制备中存在一定的问题，主要问题在于热解喷涂的反应室只有一个雾化源，该雾化源工作时根据膜的成本需要向反应室喷射不同成分的液滴。传统结构只有一个雾化源，这样就会导致工艺参数的可控性和可重复性差，薄膜质量不稳定，甚至出现交叉污染等缺陷，进而导致得不到所需成分的薄膜。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种超声雾化热解喷涂反应室的独立式多源机构，欲克服传统结构因共用一个雾化源而导致交叉污染的问题。

本实用新型的技术方案如下：一种超声雾化热解喷涂反应室的独立式多源机构，包括反应室(1)，其特征在于：所述反应室(1)下方沿周向设有至少两个相互独立的雾化源(2)，每个雾化源(2)上部的喷雾口分别连接有一根喷雾管(3)，这些喷雾管的上部均朝向所述反应室(1)的轴心线，并与该反应室的轴心线形成一个数值相同的喷雾角α，且15°≤α≤45°；所有所述喷雾管(3)上部的喷雾口处分别设有一块挡板(4)，该挡板与对应的驱动组件相连，并在驱动组件的驱动下有选择地遮挡或敞开喷雾管(3)上部的喷雾口。

在上述技术方案中，本实用新型摒弃了传统技术共用一个雾化源的结构，取而代之的是设置多个相互独立的雾化源(2)，这些雾化源(2)沿反应室(1)的周向布置，并在每个雾化源(2)上部的喷雾口分别连接有一根喷雾管(3)，且喷雾管(3)上部的喷雾口可由挡板(4)开闭，从而可以在每个雾化源(2)中形成一种成分的雾滴，并可以通过挡板(4)的开闭来控制雾滴的喷出与否，从而得到想要成分的复合膜，从而很好地克服了传统结构导致交叉污染的缺陷，且本实用新型结构简单，易于实施，具有很好的技术及经济价值。

在本案中，所述驱动组件由驱动杆(5)和驱动电机(6)构成，其中驱动杆(5)上端与所述挡板(4)下板面垂直固定，且驱动杆(5)下端穿过所述反应室(1)上的过孔后，与所述驱动电机(6)的输出轴上端同轴固定，该驱动电机安装在反应室(1)的外壁上。

采用以上结构，不仅能可靠地驱动挡板(4)遮挡或者敞开喷雾管(3)上部的喷雾口，而且结构简单，可靠，易于控制。并且，所有的驱动组件可以联动或者差动。

作为优选，所述喷雾角α的数值为30°。

有益效果：本实用新型摒弃了传统技术共用一个雾化源的结构，取而代之的是设置多个相互独立的雾化源，这些雾化源沿反应室的周向布置，并在每个雾化源上部的喷雾口分别连接有一根喷雾管，且喷雾管上部的喷雾口可由挡板开闭，从而可以在每个雾化源中形成一种成分的雾滴，并可以通过挡板的开闭来控制雾滴的喷出与否，从而得到想要成分的复合膜，从而很好地克服了传统结构导致交叉污染的缺陷，且本实用新型结构简单，易于实施，具有很好的技术及经济价值。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1所示，一种超声雾化热解喷涂反应室的独立式多源机构，主要由反应室1、雾化源2、喷雾管3、挡板4和驱动组件构成。其中，反应室1为现有技术，在反应室1的下方沿周向设有至少两个相互独立的雾化源2，该雾化源2的具体数目可以为2、3、4、5、6........，其具体数目根据实际情况做相应调整。并且，雾化源2可以采用常规设计的，也可以采用全新设计的，它的具体结构不是本案的保护重点。每个雾化源2上部的喷雾口分别连接有一根喷雾管3，这些喷雾管3的上部均朝向反应室1的轴心线，并与该反应室的轴心线形成一个喷雾角α，且所有喷雾角α的数值相同。在本案中，15°≤α≤45°，并可进一步优选为20°、25°、30°、35°或者40°。