[实用新型]一种自动提升清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种自动提升清洗设备。

背景技术

半导体晶片在生产制造过程中需要多道清洗工序，通过清洗液清洗振荡等步骤，对晶片表面的杂质和损伤层面进行去除。而清洗效果的优劣决定晶片的质量。

在制造过程中清洗液振荡时，需要作业员手动提涮晶片花篮，以达到预期清洗效果，手动操作的方式对于作业员的依赖性大，作业员操作的力度、幅度等因素均依赖于作业员的人为控制，清洗质量稳定性、一致性差。

实用新型内容

为解决半导体晶片在清洗过程中存在的清洗效果差，受作业员人为因素的影响较大的问题，本实用新型提供了一种自动提升清洗设备，其使用机械提升的方法，减少人为操作偏差对产品品质的影响，达到清洗质量稳定、一致的效果。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案。

一种自动提升清洗设备，包括：控制电源、压缩空气电磁阀、压缩气体管道、气缸、螺杆、升降臂、清洗槽；所述控制电源与压缩空气电磁阀连接，压缩空气电磁阀能够定时启闭，压缩空气电磁阀位于压缩气体管道上，压缩气体管道与气缸连接，气缸通过螺杆与升降臂的一端连接，升降臂的另一端上搭载晶片花篮，在升降臂下降时位于清洗槽内。使用螺杆联动清洗支架，可以等速均匀的抖动提涮晶片花篮，减少人为因素对品质的影响。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗槽内还设有加热装置，加热装置与升降臂之间留有间隙。晶片花篮放置在清洗升降臂上，较直接放于清洗槽底部更加稳固，并且与加热装置留出一定空间，避免了加热装置与晶片的碰撞，利于降低报废率。

所述升降臂为L型，包括竖撑和竖撑底部的横撑，所述晶片花篮放置于横撑上，竖撑与螺杆连接。

所述竖撑包括横杆和位于横杆两侧下方的竖杆，竖杆与横撑连接，横杆与螺杆连接。如此便于最大限度的节省材料。

所述清洗槽为超声槽。

本实用新型的工作过程为：开启控制电源，压缩空气电磁阀根据设定时间，定时开启/关闭，通过压缩气体在气缸中的推动，使联动螺杆做上下运动，螺杆与清洗升降臂一端连接，另一端搭载清洗的晶片花篮，螺杆的上下运动带动晶片及花篮在清洗槽内的液体中做上下往复运动，以达到不间断晃动花篮，提升清洗效果的目的。

本实用新型的有益效果是，可使用时间继电器设定时间，等速均匀的提涮晶片花篮，减少人为因素的影响；升降支架能更好的固定晶片花篮，并与槽内加热装置留有一定空间，减少了晶片与加热装置的碰撞，有利于提升成品率和良率。

当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

图1是本实用新型整体结构示意图。

图2是图1的左视图。

其中，1、控制电源；2、压缩空气电磁阀；3、压缩气体管道；4、气缸；5、螺杆；6、升降臂；7、加热装置；8、超声槽。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。