[实用新型]发光式摄影测量光学标志有效
| 申请号： | 201520620822.X | 申请日： | 2015-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN204902839U | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 郑郧 | 申请（专利权）人： | 郑郧 |
| 主分类号： | G01C15/02 | 分类号： | G01C15/02 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴;丁浩秋 |
| 地址： | 200000 上海市长*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光 摄影 测量 光学 标志 | ||
【权利要求书】：
1.一种发光式摄影测量光学标志，包括用于吸附的衬底，其特征在于，所述衬底上还设置有发光体，所述发光体为规则图形。
2.根据权利要求1所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述衬底由毛面的黑色磁性橡胶制成或者为真空吸盘。
3.根据权利要求1或2所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述发光体为LED阵列，所述LED阵列由100～200个单一波长的发光二极管均匀排列在基面上。
4.根据权利要求3所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述LED阵列采用粘结剂粘在底衬上，LED阵列和底衬的总厚度为25mm～40mm。
5.根据权利要求3所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述发光体为圆形、矩形或者三角形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑郧，未经郑郧许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520620822.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
