[实用新型]一种等离子切割平台

权利要求书

1.一种等离子切割平台，其特征在于：包括有水箱（1），所述水箱（1）中设置有高度小于水箱（1）深度的工件支撑架（6），所述水箱（1）下部设置有封闭的储水箱（2），所述储水箱（2）与水箱（1）之间设置有连通两者的通水管（3），所述通水管（3）竖向设置并且其下端口靠近储水箱（2）的内底面，所述储水箱（2）连接有通气管（4），所述通气管（4）上设置有气路阀门（5）。

2.根据权利要求1所述的一种等离子切割平台，其特征在于：所述水箱（1）的深度至少为50cm，所述工件支撑架（6）的高度为25cm。

3.根据权利要求1所述的一种等离子切割平台，其特征在于：所述通水管（3）设置在贴近水箱（1）侧壁的位置。

4.根据权利要求3所述的一种等离子切割平台，其特征在于：所述通水管（3）的上端口设置有滤网。

5.根据权利要求4所述的一种等离子切割平台，其特征在于：所述通水管（3）的上端口在侧壁上设置出水孔（301），所述出水孔（301）的下沿与水箱（1）的底面齐平。

6.根据权利要求1所述的一种等离子切割平台，其特征在于：所述通水管（3）采用φ32×3.5mm的铁管。