[实用新型]一种研磨布有效
申请号: | 201520652632.6 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN204883108U | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 刘志伟;段晓然;何峰;李向龙;马立志 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1333;B08B1/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 | ||
1.一种研磨布,其特征在于:包括背基和磨粒,所述磨粒按若干个不同区域分布于所述背基上,每个区域内各处磨粒的粒度和密度均相同,且至少有一个区域的磨粒的粒度和密度不同于其它区域的磨粒的粒度和密度。
2.根据权利要求1所述的研磨布,其特征在于:所述磨粒按第一区域、第二区域、第三区域和第四区域分布于所述背基上,所述第一区域和第二区域从左至右位于背基的第一排,所述第四区域和第三区域从左至右位于背基的第二排。
3.根据权利要求2所述的研磨布,其特征在于:所述第一区域与第二区域的面积比等于第三区域与第四区域的面积比。
4.根据权利要求2所述的研磨布,其特征在于:所述第一区域和第三区域内背基和胶的总厚度为250μm,网状式凹槽宽度为50μm;所述第二区域和第四区域内背基和胶的总厚度为350μm,网状式凹槽宽度为30μm。
5.根据权利要求2所述的研磨布,其特征在于:所述第一区域和第三区域内磨粒的粒度为50目,高度为250μm;所述第二区域和第四区域内磨粒的粒度为20目,高度为150μm。
6.根据权利要求2所述的研磨布,其特征在于:所述每个区域内的磨粒的硬度均为85±5。
7.根据权利要求2所述的研磨布,其特征在于:所述每个区域内的磨粒定向排列于所述背基上。
8.根据权利要求7所述的研磨布,其特征在于:所述每个区域内的磨粒的网络倾角为10度。
9.根据权利要求1-8任一项所述的研磨布,其特征在于:所述每个区域内的磨粒的材质为AL2O3。
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