[实用新型]一种灌木栽培模式有效
申请号: | 201520653286.3 | 申请日: | 2015-08-27 |
公开(公告)号: | CN204929723U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 王迅;汪志辉;唐懿;赖云松;夏惠;梁东;刘继;邱霞;焦博雷 | 申请(专利权)人: | 四川农业大学 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 王震秀 |
地址: | 611130 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 灌木 栽培 模式 | ||
技术领域
本实用新型涉及植物的种植技术领域,尤其涉及一种针对灌木的栽培模式。
背景技术
灌木是人体尺度最佳观赏点的植物群体,其没有明显的主干,其根是生长状态为丛生状,大部分的灌木高度在乔木以下草本以上,成熟的灌木一般不高于3m。
目前现有技术中,为了提高土壤温度,保持土壤水分,维持土壤结构,防止害虫侵袭作物等,常用的栽培模式是将地膜覆盖于垄面上,每垄种植单行或双行植物,但由于灌木根茎浅,在种植灌木时使用这种方法一旦温度过高将会导致灌木烧死。
实用新型内容
为了克服现有技术方法的不足,本实用新型的目的在于提供一种灌木栽培模式,不仅能够实现地膜对于保水、保肥、维持土壤结构、防止杂草和害虫的侵袭,还能够克服由于温度过高,对灌木所产生的损害。
为达到上述目的,本实用新型采用技术方案是:
一种灌木栽培模式,包括单垄,所述单垄包括:种植区,地膜一区,地膜二区,水利系统;其中所述种植区位于单垄纵向中部,所述地膜一区和地膜二区分别位于种植区左右两侧,所述水利系统架于单垄之上;所述单垄横截面高度为30~40cm,宽度为180~300cm;所述地膜一区和地膜二区的横截面宽度均为68~72cm,通过此结构以提高土壤温度,保持土壤水分,维持土壤结构,防止害虫侵袭作物。
进一步的是,所述水利系统,包括两根主管和两根支管,支管与主管相连接。
进一步的是,所述两根主管,分别位于单垄两端,一根为进水管,另一根为回水管,通过此结构能够使剩余的水得到循环利用。
进一步的是,所述进水管与支管连接处设有阀门,以控制每个单垄的水流大小。
进一步的是,所述两根支管,位于种植区之上,一根靠向地膜一区,另一根靠向地膜二区,灌木种植于两支管之间。
进一步的是,所述两根支管上分布有水孔。
进一步的是,所述两根支管之间距离为27~33cm。
进一步的是,所述单垄与另一单垄之间距离为86~94cm。
本实用新型是一种灌木栽培模式,采用本技术方案的有益效果:
通过本实用新型的栽培模式,将地膜区域和种植区域相分离,不但保留了使用地膜所带来的提高土壤温度,保持土壤水分,保持土壤肥料,维持土壤结构,防止害虫侵袭作物等有益效果,还有效解决了地膜导致温度过高而使灌木烧死的问题;本实用新型的栽培模式中所架设的水利系统使得灌溉过程更加方便简洁,提高水的利用率。
附图说明
图1为本实用新型的灌木栽培模式的单垄正视结构示意图。
图2为本实用新型的灌木栽培模式的单垄俯视结构示意图。
图3为本实用新型的灌木栽培模式的两个单垄组合结构示意图。
其中,1是种植区,2是地膜一区,3是地膜二区,4是进水管,5是回水管,6是支管,7阀门,8是水孔,9是灌木。
具体实施方式
为了使实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合附图对本实用新型作进一步阐述。
一种灌木栽培模式,由多个单垄组合而成。
如图1和图2所示,实施例中,所述单垄包括:种植区1,地膜一区2,地膜二区3,水利系统;其中所述种植区1位于单垄纵向中部,所述地膜一区2和地膜二区3分别位于种植区1左右两侧,所述水利系统架于单垄之上;单垄横截面高度为35cm,宽度为200cm;所述地膜一区2和地膜二区3的横截面宽度均为70cm,通过此结构以提高土壤温度,保持土壤水分,维持土壤结构,防止害虫侵袭作物。
所述水利系统,包括两根主管和两根支管6,支管6与主管相连接。
其中,两根主管,分别位于单垄两端,一根为进水管4,另一根为回水管5,通过此结构能够使剩余的水得到循环利用。
其中,进水管4与支管6连接处设有阀门7,以控制每个单垄的水流大小。
其中,两根支管6,位于种植区1之上,一根靠向地膜一区2,另一根靠向地膜二区3,灌木9种植于两支管6之间;所述两根支管6上分布有水孔8;两根支管6之间距离为30cm。
另一实施例中,如图3所示,所述单垄与另一单垄之间距离为90cm。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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