[实用新型]化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头有效

专利信息
申请号: 201520669845.X 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN204954604U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 孙准皓 申请(专利权)人: K.C.科技股份有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 化学 机械抛光 装置 承载 隔膜
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,包括:

底板,由可挠性材质形成;

侧面,在上述底板的边缘折弯而成,并由可挠性材质形成,在上述侧面的外周面上形成有环形的第一缓冲槽;

内侧固定体,由硬度高于上述侧面及上述底板的材质形成,并固定于上述第一缓冲槽的上侧的内侧。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,还包括:

外侧固定体,其由硬度高于上述侧面及上述底板的材质形成,并固定于上述第一缓冲槽的上侧的外部。

3.根据权利要求2所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

在上述侧面的外周面上形成有用于定位上述外侧固定体的环形突起,在上述外侧固定体的内周面形成有用于收容上述环形突起的环形收容槽。

4.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

在上述侧面的内周面形成有环形的环形槽,在上述内侧固定体形成有环形的插入突起,上述插入突起插入于上述环形槽。

5.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

在上述第一缓冲槽的下侧的内侧形成有环形的第二缓冲槽,从而通过S形的路径来传递通过上述侧面向下方传递的加压力。

6.根据权利要求5所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

与上述第二缓冲槽的外侧角落面相比,上述第一缓冲槽的内侧面更靠内侧。

7.根据权利要求5所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

上述第二缓冲槽的上侧由第二倾斜面形成。

8.根据权利要求5所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

上述第一缓冲槽的上侧边界由水平面形成,上述第一缓冲槽的下侧由第一倾斜面形成。

9.根据权利要求5所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

在上述底板形成有环形的隔板,从而将通过上述底板来进行加压的压力腔室分割为多个,相邻于上述侧面的最外侧隔板以具有径向向内方向成分的方式相对于上述底板倾斜地延伸。

10.根据权利要求9所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

上述侧面和上述最外侧隔板以小于等于5mm间隔沿着径向隔开。

11.根据权利要求9所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

上述第二缓冲槽的上侧由第二倾斜面形成,上述第二倾斜面形成为,与上述最外侧隔板延伸而成的倾斜度之间具有20度以下的倾斜角之差。

12.根据权利要求9所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

包括上述最外侧隔板的下侧在内,在上述侧面和上述最外侧隔板之间的区域中的上述底板上形成有环形的阻断槽。

13.根据权利要求12所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

上述阻断槽的深度大于上述底板的厚度的2/3。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,

在上述侧面的上侧形成有加压腔室,上述加压腔室的平底面位于上述侧面的上侧。

15.一种化学机械抛光装置用承载头,其特征在于,包括:

本体;

底座,与上述本体一同旋转驱动;以及

权利要求1至13中任一项所述的隔膜,定位于上述底座,并在上述隔膜与上述底座之间形成有压力腔室,从而在化学机械抛光工序中通过控制上述压力腔室的压力来向下方加压位于底面的晶片。

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